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真空氣相沉積爐
真空氣相沉積爐

參考價格

面議

型號

HVCVD

品牌

產地

上海

樣本

暫無
上海哈騰電爐設備有限公司

會員

|

第5年

|

生產商

工商已核實

留言詢價
核心參數
  • 燒結氣氛:

    真空
  • 溫控精度:

    ±5℃
  • 最高溫度:

    1500℃
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  1. 設備用途

        本設備主要用于碳素制品的化學氣相沉積增密處理,或以碳氫氣體為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理及碳氈制品真空碳化其熱處理。


   

  1. 設備特點

        1. 雙層SUS304爐體結構,中間通以冷卻水,有效降低爐體表面溫度,減少高溫傷害,降低對環境的影響;
        2. 采用先進的保溫材料及隔熱結構,導熱系數低,保溫效果好,即使在很高的溫度下也能有效隔絕熱量,節約能耗;
        3. 能夠準確控制氣體流量和壓力,通過特殊的導氣結構和裝置,大大提高產品的合格率,降低沉積時間;
        4. 通過特殊的過濾裝置,使其熱解過程的碳粉幾乎完全過濾,不進入真空機組,大大延長了真空機組的使用壽命;
        5. 人性化配置,既可以手動操作,也可以實現一鍵智能操作;
        6. 型式多樣化,立式上開門、立式底升式、臥式側開門,任意選擇;
        7. 本產品接受非標定制。


   

  1. 設備參數

型號

工作區尺寸
         D×H

**溫度
         ℃

溫度均勻性
         ℃

冷態極限真空度
         Pa

壓升率
         Pa/h

加熱功率
         Kw

HVCVD-2030

Φ200×300

1500

±5

50

3

25

HVCVD-2540

Φ250×400

1500

±5

50

3

40

HVCVD-3050

Φ300×500

1500

±5

50

3

55

注:以上技術參數可根據工藝進行調整,不作為驗收依據,具體以技術方案和協議為準。


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用戶評論

產品質量

10分

售后服務

10分

易用性

10分

性價比

10分
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