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桌面式平片原子層沉積系統(tǒng)
原子層沉積（Atomic layer deposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔體內(nèi)并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種技術(shù)，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應(yīng)用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。
產(chǎn)品描述
廈門韞茂科技公司研發(fā)的超小型桌式 ALD 原子層沉積設(shè)備是先進(jìn)材料研究的有力設(shè)備之一，它可以在6寸晶元（向下兼容）和微納米粉體上實(shí)現(xiàn)均勻可控的原子層沉積，具有廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域，設(shè)各配有獨(dú)立控制的300℃完整加熱反應(yīng)腔室系統(tǒng)，保證工藝溫度均勻，該系統(tǒng)具有**粉末樣品桶、晶元載盤，全自動(dòng)溫控制、 ALD 前驅(qū)體源鋼瓶、自動(dòng)溫度控制閥、工業(yè)級(jí)安全控制，以及現(xiàn)場 RGA 、 QCM 、臭氧發(fā)生器、手套箱等設(shè)計(jì)選項(xiàng)，是先進(jìn)能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應(yīng)用的**研發(fā)工具
主要技術(shù)參數(shù)
| Mini Desktop ALD 技術(shù)參數(shù) Technical Specifications （HfO2, ZnO, Al2O3, TiO2等制備） | |
| 特色 Feature | 結(jié)構(gòu)緊湊，世界上極小尺寸的桌式ALD World Smallest Footprint Desktop ALD |
| 功能 Function | 高端制造，功能強(qiáng)大，操作簡易，維護(hù)方便 |
| 樣品**尺寸 | Ф100mm (其他尺寸可定制）硅片或幾克粉末 |
| 樣品反應(yīng)溫度 Heating | RT-450℃ |
| 前驅(qū)體 Max Precursor | **可4組液態(tài)或固態(tài)反應(yīng)前驅(qū)體, Max 4 Liquid/Solid Precursors，可定制 Can Be Customized |
| 前驅(qū)體加熱**溫度 Max Precursor Heating | RT-200℃ |
| 包覆均一性 Uniformity | <1% (Al2O3) |
| 成膜速率 Deposition Rate | 1A/Cycle (Al2O3) |
| 臭氧發(fā)生器Ozone Generator | 可選配，生產(chǎn)效率15g/h |
| 人機(jī)界面 HMI | 全自動(dòng)化人機(jī)操作界面 |
| 安全Safety | 工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)安全互鎖Industry Safety Interlock，報(bào)警Alarm，EMO |
產(chǎn)品詳情：桌面型原子層沉積系統(tǒng) 小巧緊湊，功能強(qiáng)大，專為科研定制而生，科研工作者的ALD鍍膜助手。
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