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技術參數：
ARL Quant’X 熒光能譜儀
應對RoHS指令 ――快速分析
超大Si(Li) 晶體，具有極高的痕量分析的靈敏度，打破lng的檢測限壁壘
全數字脈沖處理器技術，死時間達60%， 以及優異的峰背比
高級FP無標樣分析軟件，進行無標樣分析，減少對標樣的依賴性
高靈敏電制冷Si(Li) 探測器技術， 儀器免維護和零費用運行
超大樣品室，可容納300mm*(乘號)400mm的樣品
全自動校準，自動監測，自動報警系統，完全計算機控制
鍍層和薄膜測量技術， 具有無標樣分析測厚技術
主要特點：
ARL Quant’X 熒光能譜儀
具有廣泛的應用如:ROHS-WEEE電子廢棄物中重元素分析，各種合金及貴金屬成分分析，環境污染氣溶膠的測度， 考古文物保護，刑偵痕量分析，營養品分析，磁性介質和半導體的薄膜渡層厚度分析，各種油品中成分分析，納米至微米鍍層厚度測量，土壤，催化劑，礦石，原材料等.
用于材料的無損分析可選擇液氮致冷或電致冷Si(Li) 探測器 從氟至鈾的多元素分析測定的濃度范圍一般可以從ppm級至100% 技術參數
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