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全新的電子光學系統靈敏度高，即使在*復雜的表面化學分析中，如傳統的材料和合成生物技術，納米以及制藥行業中，K-Alpha都可以進行詳細分析。其特點是對小材料的分析能力，并結合高靈敏度，實現快速、化學態成像采集。完整的離子源提供了高分辨率的深度形態分析，因此完成真正的三維分析。

結構緊湊的設計以及內置系統校正特色，正是實現了目前賽默飛世爾公司產品所倡導的分析產品的宗旨：功能強大，低運行成本。

技術參數：

K-Alpha光電子能譜儀(XPS)

表面分析中一盞閃耀明燈

● 微聚焦單色化XPS，高精度鑒別化學態

● 全自動操作，快速準確地分析表面化學表征

● 高靈敏度化學成像

● 高分辨率深度剖析

● 可進行包括絕緣樣品在內各種樣品的小面積XPS分析

● 使用獨特的反射光學系統輕松對準分析區域

● **技術的自動中和裝置

● 大大改善了儀器使用的簡便性、安全性和穩定性

● 穩固保持儀器**性能，可隨時自動校準儀器參數

● **限度提高了樣品分析通量

● 堅固和一體化設計

良好的性價比，降低了使用者成本

主要特點：

K-Alpha XPS可以對固體材料進行納米級表面化學成分的定量分析。無論是絕緣體，半導體以及金屬物質，在用戶友好型界面下，全自動、穩定地完成檢測。這款創新的檢測系統特別為高通量樣品分析所設計，并且結合了獨特的數據處理運算方法，從而實現了從數據采集，數據解析到生成報告的自動化。