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儀器簡介：
?用于捕集8吋和6吋硅晶片表面的揮發性成分（有機污染物）。(SW-8400)
?用于捕集12吋硅晶片表面的揮發性成分（有機污染物）。(SW-12400)
?捕集單面硅晶片揮發性氣體，操作簡便。
?加熱爐采用倒懸方式（參照下圖），僅對晶片正面產生的氣體進行捕集采樣。
?加熱爐**可加熱到500℃。
?加熱爐封口采用O形環（聚亞胺材質）密封，無泄露。
?一般采用PAT（內容積10ml，填充2.5g Tenax GR）捕集氣體。也可選用其他廠家的相應捕
集采樣管進行采樣。
?配備冷卻水循環裝置。
?配備防過熱裝置、聯鎖安全裝置、急停按鈕、漏水傳感器（選配）等安全防范裝置。
技術參數：
方式 ： 倒懸方式
捕集硅晶片尺寸： 8"或6"，5"以下需添加擴充環（12400型，12"）
O形環：封口部直徑220mm（聚亞胺）
石英加熱爐： 透明石英材質
加熱爐加熱方式： 頂板?底板獨立加熱方式
加熱爐使用溫度： 常用400℃（**可達500℃）
加熱爐冷卻： 冷卻水循環裝置
保溫管： 內表面惰性化鍍層處理
吹掃氣： 通常用氮氣，**使用流量500ml/min
防過熱裝置： 電流15A，感應電流30mA
急停按鈕： 紅色，蘑菇型
安全裝置： 聯鎖結構
加壓方式： 電機驅動
設備尺寸： 1140(W)×1106(H)×750(D)mm
電源： 單相AC200V、15A?AC100V、20A
重量： 280 Kg
標準附件：
PAT（一級吸附管）： 2支（與其它公司捕集管不配套）
PAT架： 1個（與其它公司捕集管不配套）
PAT適配器： 1個（與其它公司捕集管配套使用）
O形環： 2個
冷卻水循環裝置： 1臺（附標準配管）
保溫管： 1支
氣體配管： 1套（1/16"-1/8"）
纜線： 1套
工具： 1套
操作說明書： 1冊
＊SW-12400型的技術規格請垂詢。
主要特點：
?用于捕集8吋和6吋硅晶片表面的揮發性成分（有機污染物）。(SW-8400)
?用于捕集12吋硅晶片表面的揮發性成分（有機污染物）。(SW-12400)
?捕集單面硅晶片揮發性氣體，操作簡便。
?加熱爐采用倒懸方式（參照下圖），僅對晶片正面產生的氣體進行捕集采樣。
?加熱爐**可加熱到500℃。
?加熱爐封口采用O形環（聚亞胺材質）密封，無泄露。
?一般采用PAT（內容積10ml，填充2.5g Tenax GR）捕集氣體。也可選用其他廠家的相應捕
集采樣管進行采樣。
?配備冷卻水循環裝置。
?配備防過熱裝置、聯鎖安全裝置、急停按鈕、漏水傳感器（選配）等安全防范裝置。
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