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臺式精準氣氛\壓力控制高溫退火系統—ANNEAL
臺式精準氣氛\壓力控制高溫退火系統—ANNEAL可用于二維材料以及襯底、樣品在特定氛圍中的高精度熱處理，也可用于其他有高精度熱處理要求的方向。Moorfield Nanotechnology將樣品、襯底等材料的熱處理上升到與納米材料的制備同樣的技術高度。通過精準的真空度與氣氛控制以及高精度的溫度控制使樣品的熱處理過程變得和樣品的制備過程一樣高度可控。西班牙光子科學研究所、英國國家物理實驗室、曼徹斯特大學等用戶對該設備的性能都給與了高度的評價。
ANNEAL有強大的真空、氣氛控自動制系統，從高真空到各種氣氛都可以高精度自動控制。ANNEAL可實現Ar， O2， N2，H2等多種氣體高精度的流量控制。ANNEAL有多種加熱方案滿足對不同溫度的需求。完備的安全設計方案與獨特的尾氣稀釋方案可以確保即使是在氫氣氣氛下退火也可以輕松掌控。系統配備的觸屏式自動控制系統滿足退火程序的設定與存儲。
加熱方式：
石英燈：溫度**600℃，可兼容4英寸、6英寸樣品臺，可兼容多數氣氛。
CCC碳化物：500℃以上需求的常選方案，溫度可達1000℃，適用于非氧氣環境。
SiC保護的碳材料：兼容氧氣氛圍與多數氣體氛圍的增強型加熱材料。
主要特點：
◎ 高精度氣氛自動控制
◎ **1000℃的加熱溫度
◎ 本底真空<5×10-7 mbar
◎ 簡單快速取樣
◎ 設定、保存多個熱處理程序
◎ 完備的安全性設計
◎ 易于維護
◎ 兼容超凈室
◎ 穩定的性能表現
系統選件：
◎ 4英寸、6英寸樣品臺
◎ 石英燈加熱系統
◎ 電阻式加熱系統
◎ 流量計精確控制
◎ 分子泵、機械泵真空系統
◎ 氣壓全自動控制系統
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