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石墨烯等二維材料的微納加工與刻蝕需要很高的精度，而目前成熟的傳統(tǒng)半導(dǎo)體刻蝕系統(tǒng)在面對單層材料的高精度刻蝕需求時(shí)顯得力不從心。為了解決目前微納加工中常用的等離子刻蝕系統(tǒng)功率較大、難以精細(xì)控制的問題，Moorfield Nanotechnology與曼徹斯特大學(xué)諾獎得主Andre Geim課題組聯(lián)合研發(fā)了臺式超精準(zhǔn)二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)- nanoETCH。與傳統(tǒng)的刻蝕方案相比，nanoETCH在石墨烯和2D材料的關(guān)鍵加工中表現(xiàn)出了很高的性能。該系統(tǒng)對輸出功率的分辨率可到達(dá)毫瓦量級，對二維材料可實(shí)現(xiàn)超精準(zhǔn)的逐層刻蝕，也可實(shí)現(xiàn)對二維材料進(jìn)行層內(nèi)缺陷制造，還可對石墨基材等進(jìn)行表面處理。該系統(tǒng)性能已經(jīng)在劍橋大學(xué)石墨烯中心、曼徹斯特大學(xué)、英國國家石墨烯中心、西班牙光子科學(xué)研究所等諸多用戶實(shí)驗(yàn)室得到驗(yàn)證。
該系統(tǒng)可刻蝕3英寸或更大尺寸的樣品，樣品放置在專門設(shè)計(jì)的樣品臺上，低功率毫瓦級精細(xì)控制的射頻單元提供高精度的刻蝕功率，分子泵高真空系統(tǒng)可確保樣品免受污染。
應(yīng)用方向舉例：
石墨基材的處理：表面處理，更有利于剝離出大面積的石墨烯
微納刻蝕：去除石墨烯，對其他區(qū)域無損傷
缺陷加工：在石墨烯層中制造點(diǎn)缺陷
主要特點(diǎn)：
◎ 軟刻蝕功率：<30w 高精度射頻源
◎ MFC-流量計(jì)控制
◎ 3英寸、6英寸樣品臺
◎ 全自動觸屏操作系統(tǒng)
◎ 設(shè)定、保存多個(gè)刻蝕程序
◎ 可連接電腦記錄數(shù)據(jù)
◎ 本底真空<5×10-7 mbar
◎ 易于維護(hù)
◎ 完備的安全性設(shè)計(jì)
◎ 兼容超凈室
◎ 穩(wěn)定的性能表現(xiàn)
系統(tǒng)選件：
◎ 機(jī)械泵類型可選
◎ 腔體快速充氣
◎ 超高精度射頻源控制
◎ 高精度氣壓控制
◎ 增加過程氣體
用戶單位：
劍橋大學(xué) | 曼徹斯特大學(xué) | 西班牙光子科學(xué)研究所 |
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