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NANOVEA公司PS50型三維表面形貌儀
NANOVEA公司PS50型三維表面形貌儀

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美國

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微納(香港)科技有限公司

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  • 產品簡介:

    PS50型三維表面形貌儀是美國NANOVEA公司推出的一款科研版的三維表面形貌測量設備,采用國際前沿的白光共聚焦技術,可實現對材料表面從納米到毫米量級的粗糙度測試,具有測量精度高,速度快,重復性好的優點,該儀器性價比高,可用于取代傳統的探針式表面形貌儀與干涉式表面形貌儀。

  • 產品原理:采用白光共聚焦色差技術,可獲得納米級的分辨率

- 利用白光點光源,光線經過透鏡后產生色差,不同波長的光分開后入射到被測樣品上。

- 位于白光光源的對稱位置上的超靈敏探測器系統用來接收經被測點漫反射后的光。

- 根據準共聚焦原理,探測器系統只能接收到被測物體上單點反射回來的特定波長的光,從而得到這個點距離透鏡的垂直距離。

- 再通過點掃描的方式可得到一條線上的坐標,即X-Z坐標

- 然后以S路徑獲得物體每個點的三維X-Y-Z坐標

- 然后將采集的三維坐標數據交給專業的三維處理軟件進行各種表面參數的分析。

- 軟件能夠自動獲取用戶關心的表面形貌參數。

  • 產品特性:

- 采用白光共聚焦色差技術,可獲得納米級的分辨率

- 測量具有非破壞性,測量速度快,精確度高

- 測量范圍廣,可測透明、金屬材料,半透明、高漫反射,低反射率、拋 光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合 成材料、光學材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發、牙齒…);

- 尤其適合測量高坡度高曲折度的材料表面

- 不受環境光的影響

- 測量簡單,樣品無需特殊處理

- Z方向測量范圍大:為27mm

  • 主要功能:

-可創建任意區域的2D曲線圖或2D等高線分布圖;

- 可創建任意區域的3D圖像;

- 自動得到樣品的一維線粗糙度參數(Ra,Rp,Rv,Rz,Rc,Rt,Rq,Rsk,Rku);

- 自動得到樣品的二維面粗糙度(Sa,Sp,Sq,Sv,Sz,Ssk,Sku);

- 可得到樣品的平整度,波紋度等參數;

- 自動校準功能,例如粗糙度,一般情況下對于曲面樣品,首先展平,然后自動給出粗糙度的參數;

- 具有尺寸測量:長度,寬度,角度,深度臺階高度;

- 可測孔洞磨損面積,磨損體積等參數;

- 具有功率譜密度測試功能;

- 具有分形統計功能;

......

  • 主要技術參數:

    - XY全自動掃描范圍:50×50(mm)

    - XY掃描步長:0.1μm

    - 掃描速度:20mm/s

- Z方向測量范圍:27mm

- Z方向測量分辨率:2nm

  • 產品應用:

MEMS、半導體材料、太陽能、摩擦磨損、汽車、腐蝕、砂紙、巖石等。

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產品質量

10分

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10分

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10分

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10分
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