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PLUTO-M型等離子體表面處理系統是針對于高校，科學研究所和企業實驗室，或者小批量生產的創新性企業而研發的創新型實驗平臺。我們收集了大量客戶使用信息，分析應用需求，將多年設計和制造經驗應用于小型化，多功能的等離子體表面處理設備。無論是設計理念，零配件的選用，都傾注大量精力。
針對用戶不同的需求，我們提供對應配件，在獲得常規性能的同時，擁有表面鍍膜（涂層），刻蝕，等離子化學反應，粉體等離子體處理等多種能力。
產品特點：
等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發生器，同時具備物理清洗和化學清洗能力。
電源功率為200W，覆蓋常規處理需求
創新設計，可調整電極之間距離，調整等離子體濃度和強度，極大提升處理效率和能力
真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼，電極6061航空鋁合金，配件材質精良，保證設備穩定高效運行
樣品處理面積可達125mm（處理面積可達200mm，如有需求請咨詢銷售人員）
4.3寸工業級觸摸屏，操作簡單，可設置多種實驗參數
性能穩定可靠，質量穩定，自主研發，售后有保障
產品參數:
1.真空腔規格: 316不銹鋼腔體，直徑210mm*(深)230mm 約4L
2.電極：兩個自適應平板電極，材質T6061鋁合金
3.電極尺寸：120*135mm 間距20~75mm 可調
4.等離子體發生器：RF射頻發生器，頻率：13.56MHz
5.功率：0-200W連續可調，精度1W
6.氣體控制：針式氣體流量閥，標配1路氣體
7.控制方式：4.3寸工業控制觸摸屏
控制軟件功能：界面顯示實時工作狀態，
可顯示設置值與實際值，便于實時控制。
可自由設置等離子功率，通入氣體時間
全手動控制和全自動控制可選
8.保護裝置：一鍵急停保護按鈕
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