美國Filmetrics光學膜厚測量儀，測量膜層厚度從15nm到450um。利用反射干涉的原理進行無接觸測量，可測量薄膜厚度及光學常數。測量精度達到埃級的分辯率，測量迅速，操作簡單，界面友好，是一款高性價比的膜厚測量儀設備。設備光譜測量范圍從近紅外到紫外線，波長范圍從200nm到1700nm可選。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半導體膜層都可以測量。

Filmetrics光學膜厚測量儀：

其可測量薄膜厚度在15nm到450um之間，測量精度高達1埃，測量穩定性高達0.7埃，測量時間只需一到二秒， 并有手動及自動機型可選。可應用領域包括：生物醫學（Biomedical）， 液晶顯示(Displays)， 硬涂層(Hard coats)， 金屬膜(Metal)， 眼鏡涂層(Ophthalmic) ， 聚對二甲笨(Parylene)， 電路板(PCBs&PWBs)， 多孔硅(Porous Silicon)， 光阻材料(Thick Resist)，半導體材料(Semiconductors) ， 太陽光伏(Solar photovoltaics)， 真空鍍層(Vacuum Coatings)， 圈筒檢查(Web inspection applications)等。

通過Filmetrics膜厚測量儀反射式光譜測量技術，可以測試4層透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在數秒鐘測得。其應用廣泛，例如 :

半導體工業 : 光阻、氧化物、氮化物。

LCD工業 : 間距 (cell gaps)，ito電極、polyimide 保護膜。

光電鍍膜應用 : 硬化鍍膜、抗反射鍍膜、過濾片。

極易操作、快速、準確、機身輕巧及價格便宜為其主要優點，在此基礎之上，我們推出了

操作極其簡單的入門型號F20單點膜厚測試儀，可以實現反射、膜厚、n、k值測量。

F20 系列膜厚測試儀——一款暢銷的臺式薄膜厚度測量系統

只需按下一個按鈕，您在幾秒鐘同時測量厚度和折射率。設置同樣簡單， 只需插上設備到您運行Windows™系統計算機的USB端口， 并連接樣品平臺 ， F20已在世界各地有成千上萬的應用被使用. 事實上，我們每天從我們的客戶學習更多的應用.

選擇您的F20，主要取決于您需要測量的薄膜的厚度（確定所需的波長范圍），下圖是不同型號的膜厚測試儀測試的厚度范圍以及對應選擇的波長范圍。

F20 的測試原理：

一束光入射到薄膜表面時，在薄膜上下表面都會發生反射，而兩束反射光之間會產生干涉，干涉條紋的產生又是與薄膜的厚度，折射率等有關的，因此可以依據此來測量薄膜的厚度。

F20系列膜厚測試儀的具體的應用實例：

1.非晶態多晶硅

硅元素以非晶和晶體兩種形式存在， 在兩級之間是部分結晶硅。部分結晶硅又被叫做多晶硅。

非晶硅和多晶硅的光學常數(n和k)對不同沉積條件是獨特的，必須有精確的厚度測量。 測量厚度時還必須考慮粗糙度和硅薄膜結晶可能的風化。

Filmetrics 設備提供的復雜的測量程序同時測量和輸出每個要求的硅薄膜參數， 并且“一鍵”出結果。

測量范例

多晶硅被廣泛用于以硅為基礎的電子設備中。這些設備的效率取決于薄膜的光學和結構特性。隨著沉積和退火條件的改變，這些特性隨之改變，所以準確地測量這些參數非常重要。監控晶圓硅基底和多晶硅之間，加入二氧化硅層，以增加光學對比，其薄膜厚度和光學特性均可測得。F20可以很容易地測量多晶硅薄膜的厚度和光學常數，以及二氧化硅夾層厚度。Bruggeman光學模型被用來測量多晶硅薄膜光學特性。

2.電介質

電解質薄膜測量

成千上萬的電解質薄膜被用于光學，半導體，以及其它數十個行業， 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。常見的電介質有:

二氧化硅 —— *簡單的材料之一， 主要是因為它在大部分光譜上的無吸收性 (k=0)， 而且非常接近化學計量 (就是說，硅：氧非常接近 1:2)。 受熱生長的二氧化硅對光譜反應規范，通常被用來做厚度和折射率標準。 Filmetrics能測量3nm到1mm的二氧化硅厚度。

氮化硅——對此薄膜的測量比很多電介質困難，因為硅：氮比率通常不是3：4， 而且折射率一般要與薄膜厚度同時測量。 更麻煩的是，氧常常滲入薄膜，生成一定程度的氮氧化硅，增大測量難度。 但是幸運的是，我們的系統能在幾秒鐘內 “一鍵” 測量氮化硅薄膜完整特征!

測量范例

氮化硅薄膜作為電介質，鈍化層，或掩膜材料被廣泛應用于半導體產業。這個案例中，我們用F20-UVX成功地測量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度，折射率，和消光系數。有趣的事，氮化硅薄膜的光學性質與薄膜的分子當量緊密相關。使用Filmetrics專有的氮化硅擴散模型，F20-UVX可以很容易地測量氮化硅薄膜的厚度和光學性質，不管他們是富硅，貧硅，還是分子當量。

3.銦錫氧化物與透明導電氧化物

液晶顯示器，有機發光二極管變異體，以及絕大多數平面顯示器技術都依靠透明導電氧化物 (TCO) 來傳輸電流，并作每個發光元素的陽極。 和任何薄膜工藝一樣，了解組成顯示器各層物質的厚度至關重要。 對于液晶顯示器而言，就需要有測量聚酰亞胺和液晶層厚度的方法，對有機發光二極管而言，則需要測量發光、電注入和封裝層的厚度。

在測量任何多個層次的時候，諸如光譜反射率和橢偏儀之類的光學技術需要測量或建模估算每一個層次的厚度和光學常數 (反射率和 k 值)。

不幸的是，使得氧化銦錫和其他透明導電氧化物在顯示器有用的特性，同樣使這些薄膜層難以測量和建模，從而使測量在它們之上的任何物質變得困難。

Filmetrics 的氧化銦錫解決方案

Filmetrics 已經開發出簡便易行而經濟有效的方法，利用光譜反射率精確測量氧化銦錫。 將新型的氧化銦錫模式和 F20-EXR， 很寬的 400-1700nm 波長相結合，從而實現氧化銦錫可靠的“一鍵”分析。 氧化銦錫層的特性一旦得到確定，剩余顯示層分析的關鍵就解決了。

不管您參與對顯示器的基礎研究還是制造，Filmetrics 都能夠提供您所需要的...

測量液晶層

-聚酰亞胺、硬涂層、液晶、間隙

測量有機發光二極管層

發光、電注入、緩沖墊、封裝

對于空白樣品，我們建議使用 F20 系列儀器。 對于圖案片，Filmetrics的F40用于測量薄膜厚度已經找到了顯示器應用廣泛使用。

測量范例

此案例中，我們成功地測量了藍寶石和硼硅玻璃基底上銦錫氧化物薄膜厚度。與Filmetrics專有的ITO擴散模型結合的F10-RTA-EXR儀器，可以很容易地在380納米到1700納米內同時測量透射率和反射率以確定厚度，折射率，消光系數。由于ITO薄膜在各種基底上不同尋常的的擴散，這個擴展的波長范圍是必要的。

4.光刻膠

成功測量光刻膠要面對一些獨特的挑戰， 而 Filmetrics 自動測量系統成功地解決這些問題。 這些挑戰包括避免測量光源直接照射， 擁有涵蓋廣泛的光刻膠折射率資料庫， 以及有能力處理光刻膠隨烘烤和暴露而改變的折射率。

測量SU-8其它厚光刻膠的厚度有特別重要的應用。因為旋涂 SU-8 的方法雖簡便快速，但可能會導致所需厚度不太精確。 而暴露時間取決于光刻膠的厚度， 因此必須進行精確測量。 另外，由于正負光刻膠可以同時用于制造復雜的多層 MEMS結構， 了解各層的厚度就變得極端重要。

Filmetrics 提供一系列的和測繪系統來測量 3nm 到 1mm 的單層、 多層、 以及單獨的光刻膠薄膜。 所有的 Filmetrics 型號都能通過精確的光譜反射建模來測量厚度 (和折射率)。 **的算法使得“一鍵”分析成為可能，通常在一秒鐘內即可得到結果。

測量范例

測量光刻膠涂層厚度的能力對開發和制造各種半導體器件如MEMS至關重要。Filmetrics提供測量SU-8和其它光刻膠厚度的廣泛的解決方案。此案例中，我們演示如何用F20快速有效地測量硅膠上SU-8 涂層單光斑和多點厚度.

5.硅晶圓薄膜

Filmetrics 提供臺式系統， 測繪， 和生產測量 1nm 到 2mm 硅晶片和膜厚儀器系統。

6.太陽光伏應用

薄膜光伏

薄膜光伏 (TFPV) 作為硅基晶圓的較廉價的替代品正在得到開發。 薄膜光伏共有三大類，按照其有效層組成命名: 硅薄膜、II-VI (主要是銻化鎘) 和 CIGS (銅銦硒化鎵)。 每種有效層薄膜都是用在一層透明導電氧化膜上面，而基板可用玻璃或金屬。

測量有效層

準確了解有效層的厚度和組成是非常重要的。太薄會影響功效和耐用性，而太厚又會提高成本。錯誤的組成會大大降低產品的功效和制造產量。

FilmetricsF20型號為幾十家薄膜光伏制造商所使用，用于測量三類有效層的厚度和光學常數。 為了測量透明導電氧化膜上面的有效層薄膜， Filmetrics 已獲得了豐富的經驗來檢測用戶自行生產的或專業玻璃生產商提供的單層及多層導電玻璃。

其他制程薄膜

除了有效層和透明導電氧化物堆以外，還有其他薄膜用于光伏類產品的制造。這些例子包括用于刻蝕電池和電極的聚酰亞胺和光刻膠，以及減反涂層。在這些情況下，Filmetrics 有現有的臺式， 測繪， 或在線解決方案。

測量范例

快速可靠地測量多層薄膜是開發制造薄膜太陽能電池的關鍵。在這個案例中，我們需要測量薄膜光伏上緩沖層（硫化鎘）和吸收層（碲化鎘）的厚度。F20-NIR 結合準直光束平臺，使我們能夠從反射光譜測量TEC玻璃上太陽能電池碲化鎘和硫化鎘層的厚度。

7.半導體實踐教學

已經有五十多臺 Filmetrics 的 F20用于大學半導體制造教學實驗室。這不僅僅是因為它們快速、可靠和價格合理，還因為它們簡明易懂的設計，使它們成為光譜反射原理教學的理想平臺。 (如果您想了解如何在教學實驗室使用 F20，用關鍵字Filmetrics 大學在 Google 內進行搜索）。 同時，由于全世界有幾千臺 F20 在運行，接受培訓的學生們覺得培訓對將來就業很有用。

Filmetrics 對用于實驗室課程的儀器提供特別優惠。

8.卷式薄膜涂層

Filmetrics 系統在測量聚合物薄膜和涂層厚度領域有廣泛應用，我們還有專門為卷式薄膜設計的產品

卷式薄膜應用

在塑料薄膜的制造中有很多點，它們的厚度對薄膜質量至關重要。這些點包括: 薄膜的總厚度 (高達400um)、混合擠壓分層厚度和涂層在薄膜卷筒上的厚度。 對于特定 PET 上涂層，我們的F20-UV 能測量非常薄的層(~10 nm)， 甚至是高能等離子表面薄膜。 我們標準的 F20 能夠測量市面上常見的涂層，例如 0.05 到 50 um 范圍內的硬涂層。

我們有一個龐大的聚合物薄膜折射率數據庫，其中包括 PET、聚碳酸酯、醋酸纖維素和聚烯烴，以及更奇特的材料，諸如導電聚合物。

這些應用中的每一項都是獨特的挑戰，而 Filmetrics 已經開發出軟件、硬件和應用知識以便為用戶提供合適的解決方案。

測量范例

用配有200微米小光斑光纖的F20測量厚度。在線實時和臺式測量聚氯乙烯（PVC）擠壓塑料薄膜。臺式測量時SS-3標準平臺用于單點連續測量。在線測量時鏡頭和RKM在卷式薄膜移動時進行測量。利用我們龐大的折射率數據庫，PVC厚度很容易測得。F20還可以測量共擠薄膜厚度，以及各種材料，如PET涂層厚度。

9.多孔硅

近年來，多孔硅的研發工作大量進行。眾多興趣的原因是多孔硅在光學器件、氣體傳感器和生物醫療設備應用中**發展前途。

和大多數新的材料技術一樣，多孔硅開發的部分挑戰就是要找到確定各種材料參數的工具。對于多孔硅而言，*基本參數就是薄膜層的厚度和孔隙度。

其它參數關系到加工后的薄膜層，例如浸漬材料的比例或傳感器內吸收分子的數量。 根據Filmetrics 已經開發出算法，只要單擊鼠標就能揭示多孔硅的厚度、折射率和孔隙度。 這一算法在F20， F40， 和 F50 儀器內都是免費提供的。

測量范例

多孔硅的特點可由許多參數決定，但厚度和孔隙度是*主要的。一般來講，非破壞性的方法，如重力方法被用來測量孔隙度，但這種方法的準確度非常低。Filmetrics F20， 用非破壞性的方法，測量多孔硅的厚度和光學特性。Filmetrics專有的算法，一鍵點擊，可精確計算薄膜的孔隙率。

10.制程薄膜

Filmetrics 提供測量非金屬半導體制程薄膜的全系列產品。

F20是單點測量厚度和折射率的*經濟有效的儀器。

對于小光斑厚度測量 (1 微米或更小)，可以將F40固定到您的顯微鏡上。

對于空白晶圓薄膜厚度測繪，可選用經濟有效的F50。而F80則能測繪產品晶圓上的薄膜厚度。

我們**的厚度成像技術使我們的儀器易于設定、較少配方，并且提供更為可靠的模式識別和比傳統薄膜計量工具更低的價格。有獨立或組合到其它設備的機型可供選擇。