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NX-2600整片基板帶對準(zhǔn)可多層次納米壓印加高分辨率光刻系統(tǒng)經(jīng)過了大量的實時實地驗證，質(zhì)量可靠，性能優(yōu)越穩(wěn)定。具備全部壓印模式：熱固化、紫外固化和壓印。基于獨特**保護(hù)的Nanonex氣墊軟壓技術(shù)（ACP），不論模版或基板背面粗糙程度如何，或是模版或基板表面波浪和弧形結(jié)構(gòu)，NX-2600均可對其校正補(bǔ)償從而獲得****的壓印均勻性， ACP消除了基板與模版之間側(cè)向偏移，有效地延長了模版使用壽命。通過微小熱容設(shè)計可獲得快速的熱壓印周期，*終得到快速的工藝循環(huán)。

主要特點：

所有形式的納米壓印

l熱塑化

l紫外固化

l熱壓與紫外壓印同時進(jìn)行

l熱固化 氣墊軟壓技術(shù)(ACP)

lNanonex**技術(shù)

l**的整片基板納米壓印均勻性

l高通量 低于10nm分辨率 亞1微米正面對準(zhǔn)精度 背面對準(zhǔn)可選項 快速工藝循環(huán)時間（小于60秒） 靈活性

l4″， 6″， or 8″壓印面積可選

l各種尺寸及不規(guī)則形狀模板與基板均可壓印

l方便用戶操作 基于超過12年、15代產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗的自動化壓印操作 Nanonex壓印系統(tǒng)經(jīng)過大量實時實地驗證，質(zhì)量可靠，性能優(yōu)越穩(wěn)定 全自動納米壓印

納米壓印系統(tǒng)參數(shù)

熱塑壓印模塊

l溫度范圍0～250℃

l加熱速度>300℃/分鐘

l制冷速度>150℃/分鐘

l壓力范圍0 ～ 3.8 MPa（550 psi）

紫外固化模塊

l200W窄帶紫外光源

l365納米或395納米波長可選

l全自動化控制 對準(zhǔn)模塊

lX， Y， Z， Theta平臺

l分場光學(xué)和CCD相機(jī)

基板裝載

l標(biāo)配納米壓印系統(tǒng)可裝載4″基板

l6″和8″基板可選

l各種尺寸及不規(guī)則形狀模板及基板均可壓印

l獨特**保護(hù)ACP技術(shù)可**限度保護(hù)基板和模板，特別對于象磷化銦（InP）等極易碎模板和基板給予**限度保護(hù)。

光刻

l標(biāo)配5”模板，標(biāo)配4”直徑基板

l其他尺寸可以提供

l500瓦紫外水銀燈光源

應(yīng)用領(lǐng)域：

納米電子和光電子、顯示器、數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)、先進(jìn)材料、生物科技、納米流道等