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外延片PL譜掃描成像儀用于快速在線檢測(cè)發(fā)光二極管外延片的質(zhì)量，主要用于發(fā)光二極管外延片和芯片生產(chǎn)線．生成高分辨率的圖譜和測(cè)定薄膜厚度等。本儀器為外延片生產(chǎn)工藝優(yōu)化控制提供快速可靠的數(shù)據(jù)反饋．為高效高質(zhì)量生產(chǎn)提供可靠保證。本成像儀現(xiàn)已成功應(yīng)用于多條LED外延片生產(chǎn)線上。逐點(diǎn)掃描檢測(cè)計(jì)算機(jī)分析計(jì)算外延片的積分光強(qiáng)，主波長(zhǎng)，峰值波長(zhǎng)，光譜半寬等參數(shù)以繪圖形式顯示分布和數(shù)據(jù)截面分布囤，顯示單點(diǎn)光譜顯示各個(gè)參數(shù)的統(tǒng)計(jì)結(jié)果顯示選擇范圍的各項(xiàng)統(tǒng)計(jì)參數(shù)可進(jìn)行局部掃描，并對(duì)掃描結(jié)果進(jìn)行去孤立點(diǎn)和去邊處理采用白光反射譜測(cè)量薄膜厚度并以繪圖形式顯示分布和數(shù)據(jù)配備離線數(shù)據(jù)處理軟件本成像儀可靠。結(jié)構(gòu)緊湊。全部檢測(cè)和數(shù)據(jù)處理由計(jì)算機(jī)自動(dòng)完成。采用用戶友好的窗口界面，操作簡(jiǎn)便。用戶僅需*小的培訓(xùn)就可使用。另外可根據(jù)不同外延片，選配不同的激光器。

技術(shù)參數(shù)：

1 、光致發(fā)光樣品腔

10x M-Plan鏡頭顏色修正，波長(zhǎng)范圍：350-1800nm

工作距離：30.5mm， 20mm FL， z軸可調(diào)

系統(tǒng)空間分辨率：10微米(1微米選配)

鏡子帶孔洞作為激光束及PL信號(hào)的通道

Iris光圈用于激光束的調(diào)整

可變ND過(guò)濾器用于激光能量的控制(99% to 2%)

10毫米孔洞PL信號(hào)校準(zhǔn)鏡頭

馬達(dá)控制的XY臺(tái)，**速度30毫米/秒，1微米掃描分辨率

2 & 4外延晶片樣品盤(pán)

包括高分辨控制器和電纜

2、IG512近紅外光譜儀，900-1700nm， 512像素， InGaAs陣列

25um x 500um像素尺寸，14bits， 2.5MHz數(shù)字轉(zhuǎn)換器， f/4， 40mm FL

探測(cè)范圍：900nm全譜，300gr/mm， 1um blaze grating

包括SMA905， 400um多模光纖，1米長(zhǎng)

3、EPP2000-VIS(350-1150nm)用于紫外-可見(jiàn)光，衍射光柵光譜儀

f/4， symX-Czerny-turner類型

分辨率：1.6nm (50um狹縫，@600gr/mm grating)

包括2048像素CCD探測(cè)器，12bit數(shù)字轉(zhuǎn)換器

600gr/mm grating

接口：USB-2&平行

SMA905光纖光學(xué)輸入，0.22NA，400um多模光纖，1米長(zhǎng)

主要特點(diǎn)：

儀器特點(diǎn)

高品質(zhì)及中等價(jià)位的PL掃描系統(tǒng)(高性價(jià)比)；

波長(zhǎng)范圍寬廣(UV-VIS-NIR， 350nm to 2.2um)；

噪聲低，高PL信號(hào)探測(cè)；

設(shè)計(jì)緊湊，易于調(diào)諧；

各種激發(fā)激光源可選；

易于發(fā)現(xiàn)峰及FWHM；