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CNT高真空CVD系統是一款專業在沉底材料上生長高質量石墨烯、碳納米管、碳化硅的專用設備，廣泛應用于在半導體、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領域。
產品結構
高真空CVD系統主要由高溫腔體、石英管、石英支架、氣路系統、分子泵機組、自動化控制系統、冷卻系統等組成。
1、沉底材料可采用銅箔、石墨等;
2、生長腔體采用進口高純石英管，配石英支架、為石墨烯等材料的生長提供潔凈環境;
3、加熱腔體采用進口陶瓷纖維加熱器，均溫區200mm、對開式結構;
4、密封法蘭均采用不銹鋼材質，配水冷套，可連續長時間工作;
5、氣路系統采用三路質量流量計(可拓展多路),配預混系統;
6、真空系統采用分子泵機組;
7、控制系統采用10寸觸摸屏加西門子PLC模塊;
8、可選配RF射頻電源模塊;
9、氣體種類： He/Ar、C2H2、NH3、N2, H2、PH3、GeH4、B2H6
10、溫度、氣體、真空、冷卻水等通過PLC控制，通過PC實時控制和顯示相關的實驗參數，自動保存實驗參數，也可采用手動控制.
11、系統采用集成化設計，控制系統、混氣罐、質量流量計等均內置在箱體內部，占地面積小。整體安裝四個可移動輪子，方便整體移動。
技術參數
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