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15KW碟型腔4英寸單晶多晶生長直徑的MPCVD設備
15KW碟型腔4英寸單晶多晶生長直徑的MPCVD設備

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15KW碟型腔4英寸單晶多晶生長直徑的MPCVD設備

品牌

海光智能

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廣東

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15KW碟型腔4英寸單晶多晶生長直徑的MPCVD設備,101顆7*7mm晶種

微波功率調節連續平緩,沉積溫度可以連續穩定變化。

沉積反應室的結構調整,沉積腔中產生大面積又穩定的等離子體球可以大面積均勻沉積。

適應不同尺寸和形狀的襯底,較高的靈活性,通過調整工藝參數,如高硬度、高熱導率、高透光性等。

通過升級或擴展來實現更大規模的生產,提高了設備的利用率和****率。


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