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ASML二手DUV光刻機品牌
佳鼎半導體產(chǎn)地
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TWINSCAN XT:450G 365-nm步進式掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級光刻工具,設計用于批量生產(chǎn)分辨率低至 220-nm 及以上的關(guān)鍵 i-line 應用。TWINSCAN 平臺的雙晶圓臺技術(shù)使一個晶圓的曝光和下一個晶圓的對齊和映射能夠并行進行,從而幾乎消除了開銷時間并允許對晶圓進行連續(xù)圖案化。
此外,高強度 5.5 kW Hg 燈和快速臺通過*小化每個場的曝光掃描時間和場之間的步進時間來確保**生產(chǎn)力。液位傳感器與 TWINSCAN 調(diào)平方法相結(jié)合,幾乎消除了內(nèi)部芯片和邊緣芯片之間的差異,并確保整個 300 毫米晶圓的高良率。高吞吐量和產(chǎn)量與快速的標線交換時間和批量流式傳輸相結(jié)合,可提供*低的運營成本。
該工具出色的疊加和成像功能允許將非關(guān)鍵 KrF 層轉(zhuǎn)換為 i-line,從而顯著節(jié)省成本。
暫無數(shù)據(jù)!