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1、 晶圓槽式浸泡式腐蝕清洗，特制轉(zhuǎn)籠晶圓自動旋轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)。
2、 工藝結(jié)果具備高度的均勻一致性，確保腐蝕效果。
3、 工藝過程中完全自動化控制，自主研發(fā)控制系統(tǒng)，友好的人機交互界面。
4、 氮氣鼓泡功能，運行中氮氣管路可在酸槽內(nèi)平行均勻移動，鼓泡速率可調(diào)節(jié)。
5、 化學藥液多級精細過濾，循環(huán)利用并自動補液功能。
6、 具有MES系統(tǒng)的信息交互通訊能力。
7、 化學藥液具備InLine加熱冷卻恒溫功能。
8、 配置完善的晶圓倒片專用裝置。
9、 提供標準的制程解決方案。
10、清洗機通過硬件、軟件配置來較大限度的保護硅片，在異常狀況下設備出現(xiàn)Down機，立刻調(diào)動機械手將硅片從化學藥液槽中取出，放至QDR水槽中沖洗，能夠避免化學藥液對硅片的過度腐蝕。在極端條件下，機械手出現(xiàn)Down機，設備立刻將化學藥液槽中的化學藥液排掉，然后注入UPW，從而也能減小化學藥液對硅片的過度腐蝕。
11、加工能力： 晶片直徑4英寸至12英寸，每次數(shù)量75片/6英寸，50片/8英寸/12英寸
腐蝕精度： 平整度增量δTTV≤1.5μm。
使用領(lǐng)域： 晶圓減薄，表面腐蝕。
暫無數(shù)據(jù)！
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