粉碎程度:
超細(xì)粉碎單位能耗:
每小時(shí)耗電量在2-4度左右產(chǎn)量:
1-50升/小時(shí)裝機(jī)功率(kw):
3.3-4.6成品細(xì)度:
納米級(jí)入料粒度(mm):
最大0.5工作原理:
介質(zhì)研磨看了實(shí)驗(yàn)室用研磨機(jī)的用戶(hù)又看了
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顧名思義,這款實(shí)驗(yàn)室研磨機(jī)具有驚人的靈活性。有了這款全能型產(chǎn)品,您在研磨腔尺寸、材質(zhì)和研磨工藝的選擇上都具有很大的靈活性。
DYNO?-MILL MULTI LAB 是分散或研磨各種性質(zhì)和批量物料的設(shè)備,可進(jìn)行間歇式或連續(xù)式分散或研磨。它是研發(fā)領(lǐng)域小批量生產(chǎn)和小批量生產(chǎn)的理想分散珠磨機(jī)。
如果您想分散或研磨具有多種特性和不同批量大小的物料,無(wú)論是間歇式還是連續(xù)式的,DYNO?-MILL MULTI LAB都是理想的選擇。它是小批量研發(fā)和小批量生產(chǎn)的理想分散珠磨機(jī)。
研磨缸尺寸可更換,從0.15升,0.3升,0.6升到1.4升,可充分滿(mǎn)足實(shí)驗(yàn)室的各項(xiàng)需求
在0.6l腔體時(shí),更有KD和ECM-AP兩種不同的研磨原理盤(pán)片,可便捷更換,更好滿(mǎn)足研發(fā)要求
實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)可按比例放大到量產(chǎn)設(shè)備,實(shí)現(xiàn)實(shí)驗(yàn)室到生產(chǎn)的快速轉(zhuǎn)換
有WAB BASIC,WAB CONTROL和WAB VIEW三種控制系統(tǒng)可選
使用多種材質(zhì),高耐磨性和超長(zhǎng)的使用壽命
有全新設(shè)計(jì)的SIP在線(xiàn)滅菌及CIP在線(xiàn)清洗全陶瓷配置機(jī)型,可以用于滅菌制劑的研發(fā)和生產(chǎn)
專(zhuān)門(mén)開(kāi)發(fā)了兩個(gè)容積分別為 0.15 升和 0.3 升的研磨缸,用于處理批量分別為 85 毫升和 170 毫升的低粘度懸浮液。研磨后,必須通過(guò)清洗將研磨材料與研磨介質(zhì)分離。不連續(xù)運(yùn)行特別適用于微生物學(xué)中的細(xì)胞破碎,也可用于加工活性藥物成分。
對(duì)于低粘度至粘性、可泵送的批量> 500ml產(chǎn)品的加工,可使用容積為 0.15 升、0.3 升、0.6 升和 1.4 升的 500 毫升的研磨缸。研磨機(jī)旁邊的進(jìn)料泵用于將研磨物料送入 DYNO?-MULTI LAB研磨缸中。研磨介質(zhì)通過(guò)動(dòng)態(tài)間隙分離器保留在研磨腔內(nèi),允許使用 0.1 至 2.5 毫米直徑的研磨介質(zhì)。
帶有 DYNO?-加速器的 ECM 研磨原理不僅在循環(huán)模式下可實(shí)現(xiàn)極高的產(chǎn)量,在通道模式下也同樣如此。該型號(hào)可使用容積為 0.6 升的研磨缸。
優(yōu)勢(shì)
?小規(guī)模研發(fā)的理想選擇
?適合小規(guī)模生產(chǎn)
?使用同一實(shí)驗(yàn)室研磨機(jī)進(jìn)行間歇式或連續(xù)式操作
?DYNO?分散盤(pán)和專(zhuān)利 DYNO?-加速器 將兩種研磨原理集于一臺(tái)研磨機(jī)中
?一致的研磨原理使所有 DYNO?-MILL 生產(chǎn)型研磨機(jī)都能采用相同的原理進(jìn)行放大生產(chǎn)。
?適用于各種產(chǎn)品的理想設(shè)備,與產(chǎn)品接觸的易損件可選擇不同的材料
?采用優(yōu)質(zhì)陶瓷,使用壽命長(zhǎng),無(wú)金屬污染
?可小批量加工,冷卻性能理想,可加工對(duì)溫度敏感的產(chǎn)品
?操作簡(jiǎn)便 - DYNO?-MILL MULTI LAB 只需幾個(gè)簡(jiǎn)單步驟即可拆卸和重新配置
?符合 GMP 標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)
?非常容易清潔,幾乎不需要清洗
?研磨機(jī)符合人體工學(xué)設(shè)計(jì)