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安東帕很自豪地宣布推出HTK 1500 高溫腔室，這是原位高溫 X 射線衍射（XRD）環境加熱腔室的新標桿。
01
產品介紹
HTK 1500 允許將多種類型的樣品材料（包括粉末和塊狀樣品）在不降低精度的情況下均勻加熱至1500°C。
HTK 1500 以其卓越的溫度精度和穩定性脫穎而出。加熱棒的位置和高精度溫度測量確保了從25°C到1500°C的持續加熱。這種智能設計，結合先進的加熱器和絕緣材料，使其成為陶瓷、金屬等材料高溫應用的理想選擇。在高溫且需要滿足高精度的情況下，無論是確定晶格參數還是熱膨脹系數，以及測量溫度引起的相變和反應，這都是最佳選擇。
02
產品優勢
獨特的環境加熱器設計，實現均勻的溫度分布
反射幾何與透射幾何之間的輕松切換
多種樣品類型和氣體環境
與 XRDynamic 500 完美集成
03
應用領域
熱膨脹系數
動態結構變化
相圖研究
測定晶格常數
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