工作溫度（℃）：
50工作類型：
真空處理量：
50能耗：
20干燥介質：
其它適用物料：
多種可用操作方式：
自動工作原理：
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名稱（Name）
真空式等離子處理系統
型號（Model）
CRF-VPO-12L-S
控制系統（Control system）
PLC+觸摸屏
電源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz, 7kw
中頻電源功率（RF Power）
1000W/40KHz/13.56MHz
容量（Volume ）
180L(Option)
層數（Electrode of plies ）
14(Option)
有效處理面積（Area）
490(L)*356(W)
氣體通道（Gas）
兩路工作氣體可選：Ar、N2、CF4、O2
外形（Appearance ）
鈑金結構
產品特點
超大處理空間，提升處理產能，采用PLC+觸摸屏控制系統，精準的控制設備運行；
可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數，滿足客戶的需求；保養維修成本低，便于客戶成本控制；
高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業的技術支持。
應用范圍
真空等離子清洗機適用于印制線路板行業，半導體IC領域、等離子硅膠處理、塑膠處理、聚合體領域，汽車電子行業，航空工業等。印制線路板行業：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導體IC領域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領域：硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、等離子刻蝕、活化。
在現今等離子清洗機是如何解決溫度這個問題的呢？
依據等離子體中的重粒子溫度，可以把等離子體分為兩大類，熱等離子體和冷等離子體。以3×103K-3×104K，基本達到了熱力學平衡，具有統一的熱力學平衡溫度，可通過麥克斯韋的熱力學平衡態速度分布，波爾茲曼粒子能量分布，沙哈方程等方法確定等離子體狀態和參數。熱等離子體能量密度高，主要用于材料合成、球化、致密性和涂層保護。
在低溫等離子體中，重粒子的溫度只有室溫，而電子溫度可以達到成千上萬度，因此遠離熱力學平衡狀態，例如輝光放電屬于低溫等離子體。冷等離子主要用于等離子蝕刻、沉積和等離子表面裝飾。電洗滌溫度是許多用戶關心的問題，電洗滌時，電洗滌火焰看起來也和一般的火焰差不多，而電洗滌設備如采用中頻電源，功率大，能量猛，不加水冷溫度也很高，若洗滌材料不耐溫，則需注意溫度。
電漿清洗機的電源常用的是13.56KHz射頻電源，它產生的等離子密度高，能量柔軟，溫度低，一般功率為1~2KW，大功率為5KW，小功率為數百W，多功率為40KHz，中頻功率為40KHz，與射頻電源相反，電漿密度不高，但功率大，能量高，大功率為幾十KW。真空等離子體清潔器放電射頻清潔器的溫度與平時室內氣溫也差不多，當然如果整天都在使用真空等離子體清潔器，還是需要加水冷卻系統。
電漿噴射的平均溫度介于200至250攝氏度。如果能夠正確設定距離和速度，表面溫度可以達到70-80℃。本工藝適用于各種標準品(金屬、陶瓷、玻璃、塑料、彈性體等)的清洗，一般采用噴射式等離子體清洗裝置，也可應用于流水線上的等離子體清洗裝置，由于流水線的不斷運轉，材料在噴嘴下停留時間較長。由于氮氣能降低等離子體溫度，有些噴射等離子體清洗也能使用氮。電暈放電需要注意的是，等離子體清洗機中還有一種產品叫做電暈，其實電暈也是等離子體清洗機的一種分類。電暈機的洗滌溫度一般較高，電暈機與噴射等離子體的洗滌溫度相似，有時遇到不耐高溫的材料，也會用氮清洗。
事實上，沒有必要太擔心溫度問題。目前的等離子清洗機可以很好地調節溫度，使材料清洗達到理想的效果(效果)。
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