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硅材料等離子清洗機(jī)設(shè)備
硅材料等離子清洗機(jī)設(shè)備

參考價格

1-5萬元

型號

CRF-APS-500W

品牌

誠峰智造

產(chǎn)地

廣東深圳

樣本

暫無
深圳市誠峰智造有限公司

會員

|

第4年

|

生產(chǎn)商

工商已核實

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核心參數(shù)
  • 功率(kw):

    1000W(Max)/13.56MHz
  • 重量(kg):

    08676
  • 規(guī)格外形(長*寬*高):

    05894
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硅材料等離子清洗機(jī)設(shè)備:誠峰智造


全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APS-500W


型號(Model)


CRF-APS-500W

8-1-1-1.jpg

電源(Power supply)


220V/AC,50/60Hz


功率(Power)


1000W(Max)/13.56MHz


有效處理寬幅(Processing width)


120mm-2000mm(Option)


有效處理高度(Processing height)


1mm-3mm(Max)


處理速度(Processing speed)


0-5m/min


工作氣體(Gas)


AR+O2


產(chǎn)品特點(diǎn):低溫處理過程,處理溫度可< 35℃以下;


內(nèi)置式冷卻系統(tǒng),提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能;


靈活On-Line安裝方式,電子和離子的能量可達(dá)10eV以上,材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。


應(yīng)用范圍:應(yīng)用于FPC&PCB表面處理,復(fù)合型材料,玻璃,ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理;


大家認(rèn)為等離子清洗機(jī)是什么呢?有說法稱等離子清洗機(jī)是一種工具,這種說法有沒有道理呢?誠峰智造接下來與你說一說。

  等離子清洗機(jī)能夠?qū)Υ蠖鄶?shù)材料進(jìn)行處理,實現(xiàn)不同的處理目的,包括但不局限于讓材料表面變得更干凈、更容易粘接、提高印刷質(zhì)量……那么等離子清洗機(jī)究竟算是什么類別呢?說它是工具有沒有道理呢?

  等離子清洗機(jī)大多是在常壓或低壓環(huán)境下,通過外界施加能量,在電極周邊或真空腔體內(nèi)產(chǎn)生強(qiáng)電磁場,氣體原子的外層電子得以加速或受到碰撞而成為自由電子、離子、光子等正負(fù)電荷總量相等的等離子集聚體,通過等離子體的電化學(xué)特性來實現(xiàn)多種工藝目的。

  稱等離子清洗機(jī)為“工具”,想必大概指大氣常壓射流型等離子清洗機(jī)和小型實驗型真空等離子清洗機(jī),前者因結(jié)構(gòu)簡單、易操作、可與生產(chǎn)線結(jié)合等優(yōu)點(diǎn),在諸多領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用,使用起來就仿佛扳手、電筆、老虎鉗等“工具”一樣簡便;后者主要用于科研或院校單位的實驗測試化使用,體積也較小且能滿足測試使用要求。因此,兩者結(jié)合來看,稱等離子清洗機(jī)為“工具”有一定的道理。

使用等離子清洗設(shè)備對固體類材料進(jìn)行表面處理時,通常會包含物理和化學(xué)反應(yīng),而化學(xué)反應(yīng)主要包含4種類型,在昨天的文章中向大家介紹了其中兩種,那么剩下的兩種化學(xué)反應(yīng)該如何理解?又會有哪些具體的實際應(yīng)用呢?

  鑒于化學(xué)反應(yīng)方程式解釋起來較為方便且直觀,誠峰智造接下來將還會通過等離子清洗設(shè)備表面處理過程的反應(yīng)方程式向大家作一說明。下述的反應(yīng)式中大寫字母A、B、C、D、M分別代表不同的物質(zhì);小寫字母s、g則分別代表物質(zhì)固體形態(tài)和氣體形態(tài)。

  一、化學(xué)反應(yīng)式為A(g)+B(g)→C(s)+D(g)等離子表面處理過程

  等離子清洗機(jī)的這一類型的等離子清洗設(shè)備的化學(xué)反應(yīng),通常會有兩種以上的反應(yīng)氣體參與,產(chǎn)生的等離子體會與固體材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng),這一類的具體工藝應(yīng)用包括等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積即PECVD、等離子濺射和等離子體聚合。

  1.等離子清洗設(shè)備的PECVD工藝

  PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積通常是將兩種或兩種以上的工藝氣體在等離子體狀態(tài)下反應(yīng),生成新的固體物質(zhì),在材料基板上形成一層薄膜物質(zhì),這項工藝目前已在光學(xué)膜的制備等方面都有廣泛應(yīng)用。

  2.等離子清洗設(shè)備的濺射工藝

  等離子濺射同樣也是使用兩種及以上的氣體電離成等離子體進(jìn)行反應(yīng),不同的是,其中一種反應(yīng)物種先借助荷能粒子從靶材上濺射下來,然后再經(jīng)過反應(yīng)生成薄膜,屬于濺射制膜的范疇。

  3.等離子清洗設(shè)備的等離子聚合工藝

  關(guān)于等離子清洗機(jī)的聚合工藝,其實就是反應(yīng)物為有機(jī)單體所發(fā)生的等離子體反應(yīng)。

  二、化學(xué)反應(yīng)式為A(g)+B(g)+M(s)→AB(g)+M的等離子表面處理工藝

  這一類型的反應(yīng)工藝表示的是固體材料M的表面主要起催化作用,能夠促進(jìn)氣體分子的離解和復(fù)合等。關(guān)于這種等離子體反應(yīng),通常應(yīng)用于特殊氣體制備領(lǐng)域。


創(chuàng)新點(diǎn)

內(nèi)置式冷卻系統(tǒng),提高和保證設(shè)備的使用壽命和性能;

靈活On-Line安裝方式,電子和離子的能量可達(dá)10eV以上,材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。

應(yīng)用范圍:應(yīng)用于FPC&PCB表面處理,復(fù)合型材料,玻璃,ITO等行業(yè)領(lǐng)域的表面處理;

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暫無數(shù)據(jù)。
用戶評論

產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價比

10分
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  • 硅材料等離子清洗機(jī)設(shè)備的工作原理介紹?
  • 硅材料等離子清洗機(jī)設(shè)備的使用方法?
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  • 硅材料等離子清洗機(jī)設(shè)備的說明書有嗎?
  • 硅材料等離子清洗機(jī)設(shè)備的操作規(guī)程有嗎?
  • 硅材料等離子清洗機(jī)設(shè)備的報價含票含運(yùn)費(fèi)嗎?
  • 硅材料等離子清洗機(jī)設(shè)備有現(xiàn)貨嗎?
  • 硅材料等離子清洗機(jī)設(shè)備包安裝嗎?
硅材料等離子清洗機(jī)設(shè)備信息由深圳市誠峰智造有限公司為您提供,如您想了解更多關(guān)于硅材料等離子清洗機(jī)設(shè)備報價、型號、參數(shù)等信息,歡迎來電或留言咨詢。
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