溫控精度:
.最高溫度:
1500℃額定溫度:
1450℃非金屬電熱元件:
其他金屬電熱元件:
其他燒結氣氛:
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石墨盤專用真空烤盤爐
產品介紹:真空烤盤爐是與MOCVD設備配套使用的爐體,爐內抽真空,被處理工件放置在爐膛內,采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)。
應用范圍:
主要用于有效清除MOCVD承受器 (SiC涂層石墨盤或石英盤)上的氮化鎵和氮化鋁等,可達到有效清潔處理,提高制品質量的目的。
設計特點:
1、后門設計熱風電機
2、降溫時風機開啟,同時兩端降溫封頭開啟, 爐膛內產生如圖所示的氣體流向
3、通過氣體介質將隔熱層內與水冷壁之間進 行熱交換,達到快速降溫的目的
內部系統結構及原理:
技術參數:
設計特點:1、后門設計熱風電機2、降溫時風機開啟,同時兩端降溫封頭開啟, 爐膛內產生如圖所示的氣體流向3、通過氣體介質將隔熱層內與水冷壁之間進 行熱交換,達到快速降溫的目的