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橢圓偏振光譜儀主要用于準確測量薄膜厚度，光學常數，薄膜表面粗糙度以及其他的物理，化學，光學性能。美國AST公司設計和制造適合不同應用的高品質橢圓偏振光譜系統，其產品具有強大的分析功能軟件TFProbe3.0，可以幫助研發或實驗人員迅速地獲得薄膜的厚度，表面粗糙度，合金成分和介電常數等數據。

產品特點：

• 易于安裝

• 基于視窗結構的軟件，很容易操作

• 先進的光學設計，以確保能發揮出好的系統性能

• 能夠自動的以0.01度的分辨率改變入射角度

• 高功率的DUV－VIS光源，能夠應用在很寬的波段內

• 基于陣列設計的探測器系統，以確保快速測量

• zui多可測量12層薄膜的厚度及折射率

• 能夠用于實時或在線的監控光譜、厚度及折射率等參數

• 系統配備大量的光學常數數據及數據庫

• 對于每個被測薄膜樣品，用戶可以利用先進的TFProbe3.0軟件功能選擇使用NK數據庫、也可以進行色散或者復合模型（EMA）測量分析

• 三種不同水平的用戶控制模式：專家模式、系統服務模式及初級用戶模式

• 靈活的專家模式可用于各種獨特的設置和光學模型測試

• 健全的一鍵按鈕(Turn－key)對于快速和日常的測量提供了很好的解決方案

• 用戶可根據自己的喜好及操作習慣來配置參數的測量

• 系統有著全自動的計算功能及初始化功能

• 無需外部的光學器件，系統從樣品測量信號中，直接就可以對樣品進行準確的校準

• 可調節高度及傾斜度

• 能夠應用于測量不同厚度、不同類型的基片

• 各種方案及附件可用于諸如平面成像、測量波長擴展、焦斑測量等各種特殊的需求

• 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數據管理界面。

• 可用于微觀區域選項的數字成像工具

• 對整個小區域可進行反射測量的整體式反射計

系統配置：

• 型號：SE200BA-MSP-M300

• 探測器：陣列探測器

• 光源：高功率的DUV-Vis-NIR復合光源

• 指示角度變化：可編程設定，自動可調

• 平臺：ρ-θ配置的自動成像

• 軟件：TFProbe 3.2版本的軟件

• 整合了SE和MSP系列的優點

• 計算機：Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器

• 電源：110–240V AC/50-60Hz，6A

• 保修：一年的整機及零備件保修

基本參數：

• 波長范圍：250nm到1000 nm

• 波長分辨率: 1nm

• 光斑尺寸：1mm至5mm可變

• 入射角范圍：10到90度

• 入射角變化分辨率：0.01度

• 數字成像像素：130萬

• 有效放大倍數：1200×

• 長物鏡工作距離：12mm

• MSP光速尺寸：2-500μm可調

• 樣品尺寸：zui大直徑為300mm

• 基板尺寸：zui多可至20毫米厚

• 測量厚度范圍*：0nm〜10μm

• 測量時間：約1秒/位置點

• 精度*：優于0.25％

• 重復性誤差*：小于1 Ǻ

產品可選項：

• 用于反射的光度測量或透射測量

• 用于測量小區域的微小光斑

• 高分辨率數字攝像頭

• 用于MSP的超長物鏡

• X－Y成像平臺(X-Y模式，取代ρ-θ模式)

• 加熱/致冷平臺

• 樣品垂直安裝角度計

• 波長可擴展到遠DUV或IR范圍

• 掃描單色儀的配置

應用領域： 

• 玻璃鍍膜領域（LowE、太陽能…）

• 半導體制造（PR，Oxide， Nitride..)

• 液晶顯示（ITO，PR，Cell gap... ..）

• 醫學，生物薄膜及材料領域等

• 油墨，礦物學，顏料，調色劑等

• 醫藥，中間設備

• 光學涂層，TiO2， SiO2， Ta2O5... ..

• 半導體化合物

• 在MEMS/MOEMS系統上的功能性薄膜

• 非晶體，納米材料和結晶硅

詳情關注：北京燕京電子有限公司