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C11627-01 納米膜厚測量儀系列
特性
無參照物工作
尺寸緊湊，節省空間
高速、高準確度
不整平薄膜精確測量
分析光學常數（n，k）
可外部控制
參數
| 型號 | C11627-01 |
| 可測膜厚范圍（玻璃） | 20 nm to 50 μm*1 |
| 測量可重復性（玻璃） | 0.02 nm*2 *3 |
| 測量準確度（玻璃） | ±0.4 %*3 *4 |
| 光源 | LED |
| 測量波長 | 420 nm to 720 nm |
| 光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*3 |
| 工作距離 | 10 mm*3 |
| 可測層數 | *多10層 |
| 分析 | FFT 分析，擬合分析，光學常數分析 |
| 測量時間 | 19 ms/點*5 |
| 光纖接口形狀 | FC |
| 外部控制功能 | RS-232C，Ethernet |
| 電源 | AC100 V to 240 V， 50 Hz/60 Hz |
| 功耗 | 70W |
*1：以 SiO2折射率1.5來轉換
*2：測量400 nm 厚SiO2 薄膜的標準偏差
*3：取決于所使用的光學系統或物鏡的放大率
*4：可保證的測量范圍列在VLSI標準測量保證書中
*5：連續數據采集時間不包括分析時間
暫無數據！
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