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150T Plus為緊湊的分子渦輪泵鍍膜系統，適合SEM、TEM及許多薄膜應用。
150T Plus 集成了濺射和碳蒸鍍兩種沉積鍍膜功能的高分辨鍍膜系統
新款改進
● 觸摸屏更換成便于操作的電容觸摸屏
● 固件更新，新版操作界面類似安卓系統，便于客戶上手
● 新的彩色LED可視狀態指示燈
● 雙核ARM處理器，可快速響應
● USB接口可以用于固件更新，并可將鍍膜方案文件備份/復制到USB存儲設備
● 可以通過USB端口以.csv格式導出過程日志文件，以便統計分析
主要特點:
●金屬濺射或碳蒸發一體化設計，節省空間
●適合FE-SEM制樣的精細鍍膜和薄膜應用
●渦輪分子泵高真空系統，適合不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材
●全自動觸摸屏控制，快速數據輸入，操作簡單
●可儲存多個客戶自定義鍍膜方案：對多用戶實驗室十分理想
●預編程自動真空控制
●使用膜厚監控選件精確控制膜厚
●智能系統識別，自動感知用戶所插入鍍膜頭的類型
●高真空碳蒸鍍，對SEM和TEM鍍碳膜應用非常理想
●先進的碳棒蒸鍍槍設計和電流控制技術，操作簡單，重現性好
● Drop-in式快速換樣品臺（標配旋轉臺）
●真空閉鎖功能，讓工作腔室在待機使用時亦處于真空狀態
●不破壞真空條件下的濺射時間可長達60分鐘，適合材料科研應用
●人體工程學設計，整體成型機殼，維護、拆裝容易
技術參數:
●工作腔室：165mm外徑 x 127mm高
●觸摸屏全圖像用戶界面
●靶材：標配直徑57mm x 厚0.3mm Cr靶
●樣品臺：標配旋轉臺，直徑60mm，轉速8-20 rpm ，可選配旋轉傾斜臺。
●真空系統：
渦輪分子泵：帶有空氣冷卻的渦輪分子泵
旋轉機械泵：雙程旋轉機械泵
●極限真空度：5 x 10-5mbar
●濺射真空度： 5 x 10-3 到 5 x 10-1mbar之間
●濺射電流：0-150mA；可預設膜厚或使用內置定時器（選配）
●濺射時間：*長60分鐘
●碳蒸發：穩定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發，確保碳棒可重復蒸碳，電流脈沖1~90A。
●尺寸和重量：儀器機箱585mm寬x 470mm長 x 410mm高 (總高: 650mm)
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