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1、原子力顯微鏡是可以實現納米尺度下高精度三維成像及測量的顯微工具。

2、主要應用于半導體微納器件和納米材料的表面三維形貌、粗糙度、缺陷等測量。

3、本款國產化儀器具備性能穩定、測量精度高、測量速度快等特性。

4、可選配電性模塊、力學模塊、納米操作模塊等定制。

5、掃描模式有頭掃描和樣品掃描兩種模式

6、樣品尺寸,從2英寸至12英寸，還可特殊訂制。

主要功能介紹：

*該系統采用當今國際***的一體式中央控制三維全量程閉環頭部掃描。壓電陶瓷掃描頭在低工作電壓下提供X，Y和Z方向的高精準度納米級運動，具有高度線性運動和無蠕變的顯著優點。

*CD—AFM-12S配備尖端頭部掃描模塊，此配置在靈活性和樣本的大小方面提供了顯著的優勢。被測樣品大小與重量不受限制，幾乎任何大小或重量的納米材料都可進行表面三維形貌與粗糙度的測量。

*可實現大范圍的高精度掃描，樣品尺寸和重量不受限制，如大光柵、特殊形狀光柵等。（需定制選配）

*CD—AFM-12S及CD—AFM-12S PRO除常規測試模塊，還可根據用戶需求進行個性化定制：得益于開放式平臺的設計，可增加對晶圓的應力、翹曲度檢測。

檢測定位方式：軟件控制的行程300mm二維工作臺自動定位，保證12英寸樣品無盲區定位和檢測。馬達加壓電陶瓷自動探測的智能進針模式，以保護探針和樣品。探針升降行程優于20mm（探針升降行程還可優于30mm及以上，便于測量厚度更大的樣品。）

*超實用和擴展，可以實現各種測量儀器的聯動使用，*終實現跨尺度原位檢測。

*原位數字化高分辨光學顯微鏡觀測系統，配備1-12倍無級光學變焦，同軸可調亮度輔助照明光源。

*配備封閉式金屬防護罩，氣動減震器平臺，強大的抗干擾能力，始終使噪聲比達到**狀態。

主要應用場景：

微納材料表面三維形貌、粗糙度的檢測——

包括：晶圓（硅片）；光柵；陶瓷；合金；薄膜；晶體；超晶玻璃；高分子材料；復合材料；第三代半導體砷化鎵、氮化鎵、鈮酸鋰化合物襯底等。

設備主要技術指標：

1、工作模式：

Tapping mode(輕敲模式）、contact mode（接觸模式）、non-contactmode（非接觸模式）、Phase Imaging Mode（相位成像模式）、Force curve: F-Z force curve, RMS-Z curve（力曲線:F-Z力曲線，RMS-Z曲線）、LFM（側向力模式）、EFM（靜電力顯微鏡）、MFM（磁力顯微鏡）、SKPM（掃描開爾文顯微鏡）、Piezoresponse force microscopy(PFM) （壓電力顯微鏡）、Conducting atomic force microscope(C-AFM) I-V曲線（導電原子力顯微鏡）、Young's modulus 楊氏模量（選配）、Nanolithography and Nanomanipulation（納米刻蝕和納米操作）。

2、XYZ掃描方式：一體式三維全量程閉環頭部掃描，實現閉環反饋，定位更精準。具備全探針掃描技術的掃描器，掃描過程中由掃描器帶動探針進行XYZ三個方向的移動，而樣品為靜止狀態。

3、XYZ 掃描范圍：≥90μm×90μm×10μm掃描器噪聲：Z方向≤0.035nm；XY方向≤0.15nm。

4、進針方式：智能自動進針方式，采用馬達加壓電陶瓷自動探測的智能進針模式，以保護探針及樣品。探針升降行程優于20mm（探針升降行程還可優于30mm及以上，便于測量厚度更大的樣品。）

5、樣品臺尺寸≥300mm;能放置**樣品高度≥20mm;樣品大小重量不受限，樣品臺自動移動XY行程≥300x300mm。真空吸附樣品臺，自動適應各種尺寸晶圓的全軟件控制的多道真空吸軌并且可360度旋轉。

6、控制器內置三個鎖向放大器，控制器反饋響應時間2μs。控制器在XYZ三個軸上都有三個獨立的16位DAC位的數模轉換器，（共18個）用來控制掃描尺寸和掃描形狀等。每條掃描線可獲得更多的數據點(≥16000)；8通道同時成像；可同時獲得≥5000×5000數據點。

7、熱噪音法標定探針彈性系數的頻率上限≥2MHz；皮牛級力作反饋進行表面成像，力曲線頻率≥2000Hz。只需選擇掃描范圍，就能夠在掃描過程自動調節 接觸力、電路增益等參數。

8、可在液體環境中進行形貌測試。

9、可實現微區電、磁疇結構表征（晶粒/晶界、疇/疇壁）、微區性能（電容、電流、極化強度等）分析。可實現靜電力顯微鏡和掃描開爾文探針顯微鏡的單次成像技術，顯著提高測試的分辨率和靈敏度。具備形貌，面外和面外壓電力信號同時實時掃描成像功能。供快速力譜功能。

10、多點自動掃描模式。

11、高精度納米力學測試模式，定量楊氏模量、黏附力，定量形變量等二維分布圖的同時，還實時獲得測試范圍的電流二維分布圖。納米力學和表面電勢原位測試模式：實時獲得測試范圍各處的表面電勢分布圖。

12、掃描電容顯微鏡模塊，通過測量微電容變化，得出載流子濃度分布圖像。

13、掃描擴散電阻顯微鏡模塊。

14、光學定位：具有二維測量功能的原位數字化高分辨光學顯微鏡觀測系統，配備1-12倍無級光學變焦，同軸可調亮度輔助照明光源。

15、防震措施： 一體封閉式隔音及防電磁屏蔽裝置，氣浮防震臺，帶自動充氣泵。

產品參數