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砷化鎵中壓單晶爐,是在惰性氣體環境中,以石墨電阻加熱器加熱,使半導體材料熔化,用VB法生長無錯位單晶的設備。也可采用VGF法或采用VB與VGF法結合的方法實現GaAs單晶生長。
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