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RDB-BC-CrSi品牌
上海研倍產地
上海樣本
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上海研倍新材料 專業生產定制 各類靶材 合金靶材
1、產品信息
貨號 | 厚度 | 純度(%) | 形貌 | 顏色 |
RDB-BC-CrSi | 可定制 | 99.9 | 靶材 | 金屬光澤 |
2、產品規格
定制
3、產品概述
鉻硅(CrSi)靶材是一種用于物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)等薄膜沉積技術的材料。它通常用于制備具有特殊功能的薄膜材料,例如用于光學涂層、電子器件和傳感器等領域。
鉻硅(CrSi)靶材具有優異的物理和化學性能,包括高熔點、良好的導熱性和化學穩定性。這使得它在高溫環境下能夠提供穩定的性能。
4、產品用途
光學涂層:鉻硅靶材可用于制備具有特殊光學性能的薄膜材料,如反射鏡、透鏡和光學濾波器等。
電子器件:鉻硅靶材可用于制備半導體器件、光電子器件和顯示器件的薄膜材料,以提高其導電性、光學性能和穩定性。
表面涂層:鉻硅靶材可用于制備具有特殊表面性能的涂層,如耐磨涂層、防腐蝕涂層和陶瓷涂層等,以提高材料的耐用性和功能性。
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高熵合金(High entropy alloys,HEAs)是由4種或4種以上元素以等摩爾比或近似等摩爾比組成的具有簡單晶體結構的合金。與傳統合金不同,高熵合金沒有主體元素,傾向于形成簡單固溶體結構,