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面議型號
PSS Nicomp 380 N3000品牌
美國PSS產地
美國樣本
暫無誤差率：
/分辨率：
1024個數據通道重現性：
＞99%儀器原理：
動態光散射分散方式：
濕法分散測量時間：
1min-10min測量范圍：
0.3nm-10μm看了美國PSS Nicomp 380 N3000 納米粒度儀的用戶又看了
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Nicomp 380 系列納米激光粒度儀
專為復雜體系提供高精度粒度解析方案
基本信息
儀器型號：N3000
工作原理：動態光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）
檢測范圍： 0.3nm-10.0μm
Nicomp 380 N3000系列納米激光粒度儀是在原有的經典型號380DLS基礎上升級配套而來，采用動態光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理檢測分析顆粒的粒度分布，粒徑檢測范圍 0.3nm – 10μm。其配套粒度分析軟件復合采用了高斯（ Gaussian）單峰算法和擁有**技術的 Nicomp 多峰算法，對于多組分、粒徑分布不均勻分散體系的分析具有獨特優勢。
技術優勢
1、APD（LDC）超高靈敏度檢測器；
2、多角度檢測（multi angle）模塊；
3、可搭配不同功率光源；
4、精確度高，接近樣品真實值；
5、快速檢測，可以追溯歷史數據；
6、結果數據以多種形式和格式呈現；
7、符合USP,CP等個多藥典要求；
8、無需校準；
9、復合型算法：
（1）高斯（Gaussion）單峰算法與**的Nicomp多峰算法自由切換
10、模塊化設計便于維護和升級；
（1）可自動稀釋模塊**；
（2）搭配多角度檢測器；
（3）自動進樣系統（選配）；
Nicomp多峰分布概念
基線調整自動補償功能和高分辨率多峰算法是Nicomp 380系列儀器所獨有的兩個主要特點，Nicomp創始人Dave Nicole很早就認識到傳統的動態光散射理論僅給出高斯模式的粒度分布，這和實踐生產生活中不相符，因為現實中很多樣本是多分散體系，非單分散體系，而且高斯分布靈敏性不足，分辨率不高，這些特點都制約了納米粒度儀在實際生產生活中的使用。其開創性的開創了Nicomp多峰分布理論，大大提高了動態光散射理論的分辨率和靈敏性。
圖一：Nicomp多分分布數據呈現
如圖一：此數據為Nicomp創始人Dave Nicole親測其血液所得的真實案例。其檢測項目為：高密度脂蛋白，低密度脂蛋白和超低密度脂蛋白，由圖中可以看出，其血液中三個組分的平均粒徑分別顯示在7.0nm；29.3nm和217.5nm。由此可見，Nicomp分布模式可以有效反應多組分體系的粒徑分布。
Nicomp多峰分布優勢
Nicomp系列儀器均可以自由在Gaussian分布模式和Nicomp多峰分布模式中切換。其不僅可以給出傳統的DLS系統的結果，更可以通過Nicomp多峰分布模式體現樣品的真實情況。依托于Nicomp系列儀器一系列優異的算法和高靈敏性的硬件設計，Nicomp納米激光粒度儀可以有效區分1:2的多分散體系。
圖二：高斯分布及Nicomp多峰分布對比圖
如圖二：此數據為檢測93nm和150nm的標粒按照1:2的比例混合后所測得的數據。左邊為高斯分布（Gaussian）結果，右圖為Nicomp多峰分布算法結果，兩者都為光強徑數據。從高斯分布可以得到此混合標粒的平均粒徑為110nm-120nm之間，卻無法得到實際的多組分體系結構。從右側的Nicomp多峰分布可以得到結果為雙峰，即如數據呈現，體系中的粒子主要分布于98.2nm以及190nm附近，這和實際情況相符。
產品優勢
模塊化設計
Nicomp 380納米激光粒度儀是全球率先在應用動態光散射技術上的基礎上加入多模塊方法的先進粒度儀。隨著模塊的升級和增加，Nicomp 380的功能體系越來越強大，可以用于各種復雜體系的檢測分析。
自動稀釋模塊
帶有**的自動稀釋模塊消除了人工稀釋高濃度樣品帶來的誤差，且不需要人工不斷試錯來獲得合適的測試濃度，這大大縮短了測試者寶貴時間，且無需培訓，測試結果重現性好，誤差率＜1%。
380/HPLD大功率激光器
美國PSS粒度儀公司在開發儀器的過程中，考慮到在各種極端實驗測試條件中不同的需求，對不同使用條件和環境配置了不同功率的激光發生器。大功率的激光器可以對極小的粒子也能搜集到足夠的散射信號，使得儀器能夠得到極小粒子的粒徑分布。同樣，大功率激光器在測試大粒子的時候同樣也很有幫助，比如在檢測右旋糖酐大分子時，折射率的特性會引起光散射強度不足。
因為大功率激光器的特性，會彌補散射光強的不足和衰減，測試極其微小的微乳、表面活性劑膠束、蛋白質以及其他大分子不再是一個苛刻的難題。即使沒有色譜分離，Nicomp 380納米粒徑分析儀甚至也可以輕易估算出生物高分子的聚集程度。
雪崩二極管 (APD-LDC)超高靈敏度檢測器
Nicomp 380納米粒徑分析儀可以裝配各種大功率的激光發生器和軍品級別的雪崩二極管檢測器（相比較傳統的光電倍增管有7-10倍放大增益效果）。
APD通常被用于散射發生不明顯的體系里來增加信噪比和敏感度，如蛋白質、不溶性膠束、濃度極低的體系以及大分子基團，他們的顆粒的一般濃度為1mg/mL甚至更低，這些顆粒是由對光的散射不敏感的原子組成。APD外置了一個大功率激光發生器模塊，在非常短的時間內就能檢測分析納米級顆粒的分布情況。
380/MA多角度檢測器
粒徑大于100 nm的顆粒在激光的照射下不會朝著各個方向散射。多角度檢測角器通過調節檢測角度來增加粒子對光的敏感性來測試某些特殊級別粒子。Nicomp 380可以配備范圍在10°-175，步長0.7°的多角度測角器，從而使得單一90°檢測角測試不了的樣品，通過調節角度進行檢測，改善對大粒子多分散系粒徑分析的精確度。
工作原理
Nicomp 3000 系列納米激光粒度儀采用動態光散射原理檢測分析樣品的粒度分布?；诙嗥绽针娪竟馍⑸湓恚―oppler Electrophoretic Light Scattering，DELS）檢測ZETA電位。其主要用于檢測額納米級別及亞微米級別的體系，粒徑檢測范圍0.3nm-10μm，ZETA電位檢測范圍為+/-500mV。動態光散射方法（DLS）從傳統的光散射理論中分離，關注光強隨著時間的波動行為。我們通過光強值的波動得到自相關函數，從而獲得衰減時間常量 T，根據公式換算獲得粒子的擴散速度 D（Diffusion，擴散系數） | |
Stokes-Einstein方程∶ D=kT/6rnR D=擴散系數 T=溫度 R=粒子半徑 η=粘度 k=玻爾茲曼常數 |
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粒徑檢測原理圖 | |
Zeta電位的檢測時，在樣品插入電極，施加電壓，根據樣品中電荷的遷移方向確認電荷正負性，根據遷移速率確認Zeta電位**值。Nicomp Z3000設備集成兩種Zeta電位算法：頻譜分析法和相位分析法。相位分析法在很大程度上解決了頻譜分析儀在高鹽體系，有機相體系檢測中的局限性，PSS也是**將相位分析法應用于Zeta電位檢測。 | |
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Zeta電位檢測原理圖 |
應用
醫藥領域：蛋白、病毒、脂質體、乳劑、膠束、納米晶、疫苗、納米載藥、細胞等
化工領域：墨水，顏料，高分子材料，化工染料，潤滑劑，石油化工，量子點等；
半導體領域：光刻膠、CMP slurry、樹脂等；
其他：食品，飲料，化妝品等；
儀器參數
粒徑檢測范圍 | 0.3 nm - 10 μm |
分析方法 | 動態光散射，Gaussian單峰算法和 Nicomp多峰算法 |
pH值范圍 | 1-14 |
溫度范圍 | 0℃-90 ℃（±0.1℃控溫精度，無冷凝） |
| 濃度 | 40%w/v |
激光光源 | 至少35mW激光光源 |
檢測角度 | 多角度（10°- 175°，包含90°，步進0.7°） |
檢測器 | APD-LDC(雪崩二極光電倍增管，可7-10倍增益放大) |
可用溶劑 | 水相,絕大多數有機相 |
樣品池 | 標準4 mL樣品池（1cm×4cm，高透光，石英玻璃或塑料） 1mL樣品池（玻璃，高透光率微量樣品池，微量進樣10μL） |
分析軟件 | 必配科研級軟件 符合 21 CFR Part 11 規范分析軟件（可選） |
驗證文件 | 有 |
電壓 | 220 – 240 VAC，50Hz 或100 – 120 VAC，60Hz |
計算機配置要求 | Windows 7及以上版本windows操作系統，40Gb硬盤，1G內存，光驅，USB接口，串口（COM口） |
外形尺寸 | 56 cm * 41 cm * 24cm |
| 輔助增益模塊 | 自動稀釋模塊 自動進樣器（選配） |
重量 | 約26kg（與配置有關） |
配件
大功率激光光源 | PSS使用一系列大功率激光二極管來滿足更多更苛刻的要求。使用大功率激光照射，以便從小粒子出貨的足夠的入射光。15mW, 35mW, 50mW, 100mW — 波長為635nm 的紅色二極管。20 mW 50 mW 和 100 mW 波長為 514.4nm的綠色二極管。 |
雪崩光電二極管檢測器 （APD Detector） | 提供比普通光電倍增管(PMT)高7-10倍的靈敏度。 |
自動稀釋系統模塊 | 將初始濃度較高的樣本自動稀釋至可檢測的的濃度，可稀釋初始固含量為50%的原始樣品，本模塊收**保護，其可免除人工稀釋樣品帶來的外界環境的干擾和數據上的誤差，此技術被用于批量進樣和在線檢測的過程中。 |
| 多角度檢測系統模塊 | 提供多角度的檢測能力。使用高精度的步進電機和針孔光纖技術可對散射光的接收角度進行調整，可為微粒粒徑分布提供可高分辨率的多角度檢測。對高濃度樣品（≤40%）以及大粒子多分散系的粒徑提供了提供15至175度之間不同角度上散射光的采集和檢測 |
| 自動滴定模塊（選配） | 樣品的濃度及PH值是Zeta電位的重要參數，搭配瑞士萬通的滴定儀進行檢測，真正實現了自動滴定，自動調節PH值，自動檢測Zeta電位值。免除外界的干擾和數據上的誤差，精確分析出樣品Zeta電位的趨勢。 |
| 樣品池 | 標準4 mL樣品池（1cm×4cm，高透光，石英玻璃或塑料）；1mL樣品池（玻璃，高透光率微量樣品池，進樣量10μL）。 |
自動進樣器（選配） | 批量自動進樣器能實現60個連續樣本的分析而無需操作人員的干預。因此它是一個非常好的質量控制工具，能增大樣品的處理量。大大節省了寶貴的時間。 |
應用領域
納米載藥 | 納米藥物研究近些年主要著重在藥物的傳遞方向并發展迅猛，納米粒的大小可以有效減少毒性和副作用。所以，控制這些納米粒的粒徑大小是非常必要的。
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磨料 | 磨料既有天然的也有合成的，用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。磨料是在力的作用下實現對硬度較低材料的磨削。磨料的質量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。 |
化學機械拋光液(CMP SLURRY) | 化學機械拋光是半導體制造加工過程中的重要步驟?；瘜W機械拋光液是由腐蝕性的化學組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。拋光過程很大程度上取決于晶片表面構型。晶片的加工誤差通常以埃計，對晶片質量至關重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學機械拋光加工過程的順利進行。
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陶瓷 | 陶瓷在工業中的應用非常廣泛，從磚瓦到生物醫用材料及半導體領域。在生產加工過程中監測陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制產品的性能和質量。
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粘土 | 粘土是一種含水細小顆粒礦物質天然材料。粉砂與粘土類似，但粉沙的顆粒比粘土大。粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級和使用性能。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm。
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涂料 | 涂料種類繁多，用途廣泛。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質量和性能。 |
污染物監測 | 粒度檢測分析在產品的污染監測方面起著重要作用，產品的污染對產品的質量影響巨大。絕大多數行業都有相應的標準、規程或規范，必須嚴格遵守和執行，以保證產品滿足質量要求。 |
化妝品 | 無論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑，它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關?；瘖y品的顆粒大小會影響其在皮膚表面的涂抹性能、分布均勻性能以及反光性能。保濕乳液(一種乳劑)的粒度小于200納米時才能被皮膚良好吸收，而止汗劑的粒度只有足夠大時才能阻塞毛孔起到止汗的作用。
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乳劑 | 乳劑是兩種互不相溶的液體經乳化制成的非均勻分散體系，通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類型，一種是水分散在油中，另一種是油分散在水中。常見的乳劑制品有牛奶（水包油型）和黃油（油包水型），加工過程中它們均需均質化處理到所需的粒徑大小以期延長保質期。 |
乳劑 | 乳劑是兩種互不相溶的液體經乳化制成的非均勻分散體系，通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類型，一種是水分散在油中，另一種是油分散在水中。常見的乳劑制品有牛奶（水包油型）和黃油（油包水型），加工過程中它們均需均質化處理到所需的粒徑大小以期延長保質期。 |
食品 | 食品的原料（粉末及液體）通常來源于不同的加工廠，不同來源的原料必須滿足某些特定的標準以使制品的質量均一穩定。原料性質的任何波動都會對食品的口味和口感產生影響。用原料的粒度分布作為食品質量保證和質量控制（QA/QC）的一個指標可確保生產出質量均以穩定的食品制品。 |
液體工作介質/油 | 液體工作介質（如：油）越來越昂貴，延長液體介質的壽命是目前普遍關心的問題。機械設備運轉過程中會產生金屬屑或顆粒落入工作介質中（如：油浴潤滑介質或液力傳遞介質），因此需要一種方法來確定介質（油）的更換周期。通過監測工作介質（油）中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質的周期以及延長其使用壽命。 |
墨水 | 隨著打印機技術的不斷發展，打印機用的墨水變得越來越重要。噴墨打印機墨水的粒度應當控制在一定的尺度以下，且分布均勻，大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質量。墨水是通過研磨方法制得的，可用粒度檢測分析儀器設備監測其研磨加工過程，以保證墨水的顆粒粒度分布均勻，避免產生聚集的大顆粒。 |
膠束 | 膠束是表面活性劑在溶液中的濃度超過某一臨界值后，其分子或離子自動締合而成的膠體尺度大小的聚集體質點微粒，這種膠體質點與離子之間處于平衡狀態。乳液、色漆、制藥粉體、顏料、聚合物、蛋白質大分、二氧化硅以及自組裝TiO2納米管(TNAs)等 |
光阻法，單μm顆粒技術，高濃度樣品
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