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RDB-PGY-CeO2品牌
上海研倍產地
上海樣本
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上海研倍新材料 專業生產納米粉末 氧化鈰拋光液 CeO2 納米材料
1、產品信息
貨號 | 純度 | 規格 | 形貌 | 備注 |
RDB-PGY-CeO2 | 30% | 20-30nm | 不規則 | 水性,陰離子 |
2、產品規格
1、樣品測試包裝客戶指定(<1kg/袋裝)
2、樣品產品包裝(1kg/袋裝)
3、常規產品包裝(1kg/2kg/5kg/10kg)
備注:內:充惰性氣體 外:鋁箔袋真空??筛鶕蛻粢笾付òb。
3、產品概述
產品通過“選用凈化原料+生產純化工藝+品控智能控制”制備生成,產品具有技術含量高、晶相純、磁性異物少、含水量低、化學性能穩定的特點。
4、產品用途
半導體制造:
硅片拋光:這是氧化鈰拋光液*主要的應用領域。在集成電路制造過程中,需要對硅片進行平坦化處理,以保證后續工藝的順利進行。氧化鈰拋光液可以有效去除硅片表面的微觀缺陷和粗糙度,獲得原子級平整的表面。
金屬層拋光:在多層金屬互連結構中,氧化鈰拋光液也可以用于拋光銅、鋁等金屬層,以保證金屬層的平整度和線寬精度。
介質層拋光:氧化鈰拋光液可以用于拋光各種介質層,例如二氧化硅、氮化硅等,以保證器件的性能和可靠性。
光學元件拋光:
玻璃拋光:氧化鈰拋光液可以用于拋光各種光學玻璃,例如熔融石英、硼硅酸鹽玻璃等,以提高光學元件的表面質量,減少光散射和提高光學透過率。
晶體拋光:氧化鈰拋光液也可以用于拋光各種光學晶體,例如藍寶石、YAG等,以提高其表面質量和光學性能。
精密制造:
精密陶瓷拋光:氧化鈰拋光液可以用于拋光精密陶瓷部件,以提高其表面質量和尺寸精度。
金屬部件拋光:除了半導體制造中的金屬層拋光外,氧化鈰拋光液也可以用于拋光其他金屬部件,以提高其表面光潔度和耐腐蝕性。
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高熵合金(High entropy alloys,HEAs)是由4種或4種以上元素以等摩爾比或近似等摩爾比組成的具有簡單晶體結構的合金。與傳統合金不同,高熵合金沒有主體元素,傾向于形成簡單固溶體結構,