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5-10萬元型號
BL-GHX-VK品牌
上海比朗產地
上海樣本
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光催化反應過程中隨著時間延長樣品溫度逐漸升高,反應溫度的升高對光催化反應速率會產生促進、抑制和先促進后抑制三種不同的作用,因此溫度控制在光催化反應中非常重要。反應溫度對光催化反應的影響,可以分別從溫度對光催化劑表面反應(吸附反應、化學反應和脫附反應)、光催化劑表面活性以及光催化反應機制的影響等幾個方面,控溫型光催化反應裝置為研究接近常溫25℃時的反應情況提供了有效手段。
主要特征:
1、7寸真彩PLC觸摸屏控制,動態模擬運行畫面
2、光照強度、光源功率、攪拌速度、樣品倉溫度均為數字顯示,數據實時記錄且可歷史查詢或導出
3、具備485通訊功能,連接上位機可遠程操作
4、同時具備試管底部磁力攪拌和樣品盤旋轉功能,樣品受光均勻
5、石英試管浸泡式恒溫,外接恒溫槽控制反應倉溫度
6、特殊的管路排風系統,無需外接冷卻水即可使光源溫度維持正常運行溫度
8、光照強度實時顯示,為實驗可重復性提供可靠保障
9、高透光石英試管,減少對光照的影響
10、具備定時功能和運行時間顯示
11、雙重超溫保護,燈管溫度過高或反應倉溫度過高時自動關閉電源
12、臺式設計,占地面積小,節省空間
技術參數:
1、旋轉式恒溫裝置,單次可容納12個試管
2、汞燈功率調節范圍:100-1000W可連續調節
3、氙燈功率調節范圍:100-1000W可連續調節
4、石英試管規格:10ml、30ml、50ml、100ml可選
5、受光形式:內照式光源,磁力攪拌+試管公轉
6、UVA測量范圍:0~200W/㎡,光譜范圍:280~400nm
7、可見光測量范圍:0~1800W/㎡,光譜范圍:400~1100nm
8、實驗數據實時記錄,歷史記錄可查詢
9、樣品倉溫度顯示:有
10、樣品倉制冷量:720W
11、樣品控溫范圍:10~50℃
12、控溫精度:±0.5℃
13、主機尺寸:670*500*650mm(長寬高)
14、電源要求:220V 50HZ
光催化反應過程中隨著時間延長樣品溫度逐漸升高,反應溫度的升高對光催化反應速率會產生促進、抑制和先促進后抑制三種不同的作用,因此溫度控制在光催化反應中非常重要。反應溫度對光催化反應的影響,可以分別從溫度對光催化劑表面反應(吸附反應、化學反應和脫附反應)、光催化劑表面活性以及光催化反應機制的影響等幾個方面,控溫型光催化反應裝置為研究接近常溫25℃時的反應情況提供了有效手段。
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2024-12-13
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