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簡(jiǎn)介： 智能PECVD設(shè)備是目前最新型的一款設(shè)備，將所有的控制部分集為一體，此款設(shè)備是我司在2013年獲得專利的設(shè)備。可配備PE射頻電源，將CVD系統(tǒng)升級(jí)為PECVD。當(dāng)參與反應(yīng)的氣氛進(jìn)入爐管在射頻電源的作用下產(chǎn)生離子體，可使反應(yīng)更加充分。同時(shí)等離子體起增強(qiáng)的作用，從而很大程度上優(yōu)化實(shí)驗(yàn)的工藝條件。 我公司研制的滑軌式PECVD系統(tǒng)能使整個(gè)實(shí)驗(yàn)腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光均勻等效，這種技術(shù)很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，這樣離子化的范圍和強(qiáng)度是傳統(tǒng)PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現(xiàn)象。 1、與傳統(tǒng)CVD系統(tǒng)比較，生長(zhǎng)溫度更低。 2、使用滑軌爐實(shí)現(xiàn)快速升溫和降溫。 3、設(shè)備特有的專利技術(shù)使得整管輝光均勻等效，均勻生長(zhǎng)。