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IBE離子束刻蝕系統
NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕產品概述：
NANO-MASTER的離子束刻蝕系統具有很強的適應性，可根據不同的應用而按不同的配置進行建構。多樣的樣片夾具和離子源配置可支持用戶不同的應用。用于離子束系統（或稱離子銑系統）的樣片夾具可以支持±90°傾斜、旋轉、水冷和背氦冷卻。
NANO-MASTER技術已經展示了可以把基片文庫保持在50°C以內的能力。通過傾斜和旋轉，可以刻蝕出帶斜坡的槽，并且改善了對側壁輪廓和徑向均勻度的控制。
不同的選配項可以用于不同的網格配置以及中和器。濺射選配項可以支持對新刻蝕金屬表面的涂覆，以防氧化。此外，還可以選配單晶圓自動上下片功能。
NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕產品特點：
優化的14”立方的電拋光不銹鋼腔體
水冷±90°自動傾斜旋轉基片夾具
帶不銹鋼氣體管路及氣動截止閥的MFC
直流離子源1cm-16cm
6”基片的刻蝕均勻度±1.2%
能夠控制基片溫度在50°C以內
26”x44”占地面積的不銹鋼柜體，非常適用于百級超凈間
基于計算機的全自動工藝控制，菜單驅動
LabVIEW友好用戶界面
EMO和安全互鎖
NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕產品選配：
光譜終點監測系統
背氦冷卻
21”立方的電拋光不銹鋼腔體
自動上下片
1200L/Sec渦輪分子泵
冷泵配置
增加MFC用于反應氣體實現RIBE
柵格式RFICP離子源
中空陰極或燈絲中和器
濺射源用于鈍化層沉積
NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕產品應用：
III-V族光學元件
激光光柵
高深寬比的光子晶體刻蝕
SiO2，Si和金屬的深槽刻蝕
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