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PE-100實(shí)驗(yàn)室等離子表面處理機(jī)
PE-100實(shí)驗(yàn)室等離子表面處理機(jī)

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美國

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上海昭沅儀器設(shè)備有限公司

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PE-100實(shí)驗(yàn)室等離子表面處理機(jī)

等離子表面處理機(jī)是一種非破壞性的表面處理設(shè)備,它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù),在一定真空負(fù)壓的狀態(tài)下,以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性極高的氣體等離子體,氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面,引起分子結(jié)構(gòu)的改變,從而達(dá)到對樣品表面有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗,在極短時(shí)間內(nèi)有機(jī)污染物就被外接真空泵徹底抽走,其清洗能力可以達(dá)到分子級。在一定條件下還能使樣品表面特性發(fā)生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質(zhì),所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗器既能加強(qiáng)樣品的粘附性、相容性和浸潤性,也能對樣品進(jìn)行消毒和殺菌。等離子清洗器現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、高分子、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。小型等離子清洗機(jī)以體積小、成本低、操作簡便等特點(diǎn)廣泛應(yīng)用于科研及小批量生產(chǎn)場合。

PE成立于1980年,致力于提供電子行業(yè)用的等離子設(shè)備及相關(guān)服務(wù)。通過幾十年的發(fā)展,公司發(fā)展成為提供等離子設(shè)備方面的專家,可為客戶提供專業(yè)的產(chǎn)品和解決方案,先后為眾多知名企業(yè)提供等離子處理設(shè)備,如美國宇航局NASA,美國波音Boeing,**的電子保安系統(tǒng)產(chǎn)品制造商美國霍尼韋爾Honeywell,美國摩托羅拉Moto, 德國拜耳Bayer,世界軍用飛機(jī)的領(lǐng)軍企業(yè)美國洛克希德馬丁Lockheed-Martin等等。

PE擁有多項(xiàng)***,在開發(fā)和制造等離子設(shè)備方面有許多突破性創(chuàng)新,擁有等離子體技術(shù)和制造技術(shù)領(lǐng)域里尖端的技術(shù)。這些**技術(shù)的產(chǎn)品線是公司獨(dú)有的,生產(chǎn)的等離子設(shè)備是業(yè)界公認(rèn)的集清洗速度、完整均勻性、安全可靠性為一體的等離子處理設(shè)備。

公司發(fā)展歷程

1980年初 – 公司成立并生產(chǎn)首臺等離子系統(tǒng);

1980 年底- 為線路板企業(yè)提供等離子處理設(shè)備;

1987 年- 發(fā)明TRUE等離子控溫**技術(shù),獨(dú)立控制并能保持整個(gè)等離子處理過程中溫度的穩(wěn)定性;

1988年 – 公司擴(kuò)大搬遷至California, USA;

1989年 – 生產(chǎn)首臺電腦控制等離子處理設(shè)備;.

1992年 – ***電磁屏蔽技術(shù);.

1994年 – 生產(chǎn)PE-1000聯(lián)機(jī)等離子處理設(shè)備;

1996年 – 生產(chǎn)自動(dòng)機(jī)器人裝卸系統(tǒng);

1996年 – 公司擴(kuò)大搬遷至Nevada, USA.

1997年 – 生產(chǎn)MK-III等離子盲鉆系統(tǒng);

1998年 – 生產(chǎn)TT-1 旋轉(zhuǎn)式等離子處理系統(tǒng);

2000 年- 生產(chǎn)PE-2000R卷輪式/滾動(dòng)式等離子處理系統(tǒng);

2003年 – 改進(jìn)BT-1刻蝕機(jī);

2004年 – 增加PE-200和BT-1基于windows的控制軟件和觸屏功能

2005年 – 生產(chǎn)臺式PE-100;

2010年 –生產(chǎn)臺式PE-50;

2012 年– 研制不需要CF4操作的麥格納系列

專業(yè)溫控技術(shù)

在等離子體處理過程中,溫度是確保均勻性、有效性的一個(gè)重要參數(shù)。Plasma Etch生產(chǎn)的等離子設(shè)備具有可直接調(diào)節(jié)電極溫度的**技術(shù)。通過電腦程序的自動(dòng)控制可保證整個(gè)等離子處理過程中溫度的穩(wěn)定性。這種技術(shù)是成熟且高度可靠的,并可由操作者操作控制。

操作者可在系統(tǒng)控制范圍內(nèi)設(shè)置任何溫度并自動(dòng)保持該溫度,可在溫度范圍內(nèi)設(shè)置成**溫度來處理任何材料和基底,從而可以以*快的速度處理樣品。無需預(yù)熱或者預(yù)啟動(dòng)等離子設(shè)備就可以間歇的處理樣品或者不斷的重復(fù)處理過程。

**靜電屏蔽技術(shù)

我們與許多行業(yè)進(jìn)行合作并進(jìn)行大量的研究,許多公司采用我們具有**技術(shù)和特點(diǎn)的真空腔,真空腔采用航空級鋁合金材料,具有非常好的耐用性。研究表明,采用鋁合金作為腔體可以微調(diào)每個(gè)等離子處理過程直到**的均勻性。等離子處理過程控制不恰當(dāng)?shù)脑挄?huì)導(dǎo)致對樣品的損壞,均勻性欠佳導(dǎo)致某些地方燒焦、彎曲或者損壞樣品,對此我們改進(jìn)了設(shè)計(jì)。采用我們的**靜電屏蔽技術(shù)就可以使得等離子體高效且均勻在電極表面穿流而過,這一技術(shù)大大降低了等離子處理過程中對樣品的損傷。該電磁屏蔽技術(shù)是Plasma Etch獨(dú)有的**技術(shù)。

系統(tǒng)控制軟件

PE生產(chǎn)的等離子設(shè)備和控制軟件的接口都是獨(dú)特的,軟件可以監(jiān)控和自動(dòng)控制處理進(jìn)程,如下:

1.創(chuàng)建等離子處理工藝流程

2.監(jiān)控和記錄處理數(shù)據(jù)

3.設(shè)置數(shù)據(jù)警報(bào)點(diǎn)

4.存儲(chǔ)過程數(shù)據(jù)

5.實(shí)時(shí)自動(dòng)監(jiān)測處理工藝

6.創(chuàng)建特定樣品的處理工藝流程

7.制定連續(xù)的處理任務(wù)

通過使用該控制軟件,可以精確的控制等離子處理過程的每一個(gè)環(huán)節(jié),并能夠從程序中刪除失誤操作。

PE-100參數(shù):

電極: 229mm*330mm,均可配三層電極,間距76mm

等離子發(fā)生器功率:300W,100 KHz (連續(xù)可調(diào))

質(zhì)量流量控制器: O-50cc (連續(xù)可調(diào))

Pirini真空計(jì):0-1Torr

控制器:基于WINDOWS操作系統(tǒng)的控制系統(tǒng)

真空泵:8CFM氧氣

耐用鋁合金真空腔體

可選配置

等離子發(fā)生器功率和頻率:300W ,13.56 MHz

過程溫度控制

自定義電極配置

RIE(反應(yīng)離子電極)配置

靜電屏蔽

系統(tǒng)規(guī)格

等離子控制臺:432mm* 711mm*762mm 重量:73Kg

真空泵:152mm*457mm*229mm 重量:31Kg

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售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
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