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全自動RCA清洗機
1）： 采用典型、普遍的濕法清洗方法，使硅片清洗的更徹底；
2）： 適用于6-12”晶圓的刻蝕清洗；
3）： 適用于半導體、第三代半導體（碳化硅）等領域；
4）： 全自動控制，可選擇自動配/補液，保證設備的安全穩定性；
5）： 高速移載機械手，伺服驅動控制，保證設備運行平穩，定位可靠；
6）： 在線式甩干，保證清洗的潔凈度；
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