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高效賦能,精準施力——HORIBA 光學光譜解決方案助推大規(guī)模儀器設備更新

高效賦能,精準施力——HORIBA 光學光譜解決方案助推大規(guī)模儀器設備更新
HORIBA  2024-03-19  |  閱讀:486

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隨著《推動大規(guī)模設備更新和消費品以舊換新行動方案》的正式公布,各高校及企業(yè)正積極響應,推動科研儀器、生產(chǎn)設備、用能設備等更新升級與技術改造。在這一過程中,高端、智能、綠色、安全更是設備更新的核心追求。 


為了幫助各相關機構高效完成設備升級,HORIBA 準備了一系列先進的光學光譜分析檢測解決方案。這些方案不僅能夠助力高校及企業(yè)在項目儲備和申報工作中搶占先機,更能幫助各位研究人員在未來的科研與生產(chǎn)活動中,具備更精準、高效的檢測與分析能力,為實現(xiàn)更多科技創(chuàng)新成果提供堅實的技術支持。


光學光譜

HORIBA 提供多種單色儀、探測器、光源、附件及應用軟件,為科研人員組建高性能光譜測量系統(tǒng),讓實驗設計不受儀器功能所限,充滿靈感的創(chuàng)新設想都可借助我們提供的先進工具和解決方案實現(xiàn)。


應用領域

拉曼、生化醫(yī)療、LED光源檢測、液相色譜(HPLC)、水質/廢氣檢測、光通訊(WSS)、直讀光譜、ICP光譜、熒光光譜、激光器制造等。


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分子光譜 —— 拉曼光譜

拉曼光譜技術可用于化學組成及分布分析;分子結構及官能團表征;相變研究/反應監(jiān)控;晶型、手性、應力、缺陷等研究及超光譜成像/多層分析。


應用領域

納米材料、半導體材料、地質、珠寶文博刑偵、藥物和化妝品、生命科學、能源、環(huán)境/食品等


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分子光譜 —— 熒光光譜

熒光光譜技術可用于發(fā)光量子率、發(fā)光壽命及纖維成像研究;載流子復合速率及系間串越過程研究;分子間相互作用/分子間距研究;反應動力學與動態(tài)光譜監(jiān)測;pH、溫度、粘度、分子構象、各向異性研究等。


應用領域

生物、化學、材料科學、化妝品等。


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表面測量

表面測量技術可用于膜層厚度及光學常數(shù)測定;鍍層元素隨深度的分布;材料的光學及電子特性成像· 表面形貌信息等。


應用領域

顯示、光學鍍膜、半導體、光電子、光伏材料-太陽能、納米及生物技術、LED芯片、鋰電池電極、彩涂板、硬盤、光學薄膜、表面處理、氧化/腐蝕研究、材料科學、刑偵、礦物/地質、生命科學等。


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粒度表征

粒度表征技術可用于粒度以及分布表征;各種體系的Zeta電位及等電點;大分子如聚合物、 蛋白質和淀粉等的分子量研究等。


應用領域

陶瓷、電池材料、化妝品、食品、膠體粒子、功能性納米粒子、顏料、催化劑、制藥、納米材料、高分子、納米囊等。


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元素分析

元素分析技術可用于元素空間分布分析;多元素快速分析;碳硫/氧氮氫分析;多元素高精度分析等。


應用領域

金屬(鋼鐵、有色金屬)、生物、醫(yī)藥、食品、環(huán)境(自來水、環(huán)境水、土壤、大氣粉塵)、地礦、化學、藥品、石油、樹脂、陶瓷、電子產(chǎn)業(yè)、汽車、家用電器、醫(yī)學、考古、地質、法醫(yī)等。


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