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MLCC陶瓷漿料均一性的一體化解決方案(短篇)
上海奧法美嘉生物科技有限公司 2023/02/23 | 閱讀:350
產品配置單: 方案詳情:
MLCC陶瓷漿料均一性的一體化解決方案 均一性與穩定性控制 MLCC陶瓷漿料作為MLCC生產的重要環節,漿料的穩定性和均一性影響著后續流延工藝和印刷工藝的效果,漿料如果易沉淀和易團聚,陶瓷介質的緊密型和穩定性將會受到影響;陶瓷漿料中陶瓷粉體的粒徑會影響介質層的厚度,陶瓷粉體粒徑過大不利于MLCC薄層化和小型化,此外還會影響MLCC產品的燒結性能、介電常數、介質損耗,溫度特性及容量等多方面;陶瓷粉體的外貌形態也會影響MLCC的性能,因此在分散過程中,需盡可能減少陶瓷粉體的損傷。
MLCC陶瓷漿料流程概述 陶瓷漿料的常規制備方法為:陶瓷粉體、粘合劑、溶劑等按一定比例經過珠磨(球磨)得到初始漿料,珠磨機均質陶瓷漿料后經過過濾通過PSS的Nicomp粒度分析儀測試平均粒徑、AccuSizer顆粒計數器測試過大顆粒濃度、Lum穩定性分析儀快速篩選陶瓷漿料配方穩定性。
陶瓷漿料粒度控制 陶瓷粉體的粒徑大小對MLCC產品的燒結性能、介電常數、介質損耗、溫度特性及容量等方面都有影響。在對陶瓷漿料粒徑進行考察時,主要評估其平均粒徑大小,大顆粒濃度等指標。目前常見的陶瓷漿料分散方法主要采用珠磨機(也叫砂磨機)進行分散。
HM&M珠磨機 常見分散方法的球磨法或砂磨機,在分散時物料、磨珠與機體之間的撞擊會對陶瓷漿料中的陶瓷粉體造成磨損,磨損的材料進入漿液中會變成難以除去的雜質,這對漿料的純度產生不利的影響,此外,在某些特定情況下,球磨過程還會改變粉體的物理化學性質。例如,增加晶格不完整性,形成表面無定形層等,影響后續燒結等工藝,日本HMM珠磨機的ADV機型能有效減少對陶瓷漿料的損傷。如下圖的TEM照片所示,采用HMM的UAM機型處理時有很多碎片,初步分析是由于粒子破壞而產生的鈦酸鋇,但是采用ADV機型處理中幾乎沒有發現鈦酸鋇碎片。
l 實驗室研究工作用的珠磨機,50cc、100cc和150cc三種容量可供選擇。(Apex Labo實驗型) l 無篩網設計,沒有物料堵塞風險,運行平穩,無累積壓力,無壓力損失。 l 可處理高粘度漿料 l 可使用最小15um,最大0.5mm研磨珠,一臺設備滿足大多數物料研磨和分散需求。 平均粒徑檢測 陶瓷漿料中粉體的平均粒徑會影響MLCC產品的介電常數,進而影響MLCC高電容效率,同種介質材料的介電常數存在尺寸效應,控制粉體的粒徑能有效提高介質材料的介電常數。Yong 等發現粉體尺寸在約 140 nm 處存在介電常數的最大值,大于該值介電常數隨著粉體尺寸的減小而增加,小于此值介電常數隨著粉體尺寸減小而減小。1粉體的平均粒徑還會影響介質層的厚度,從而影響MLCC的高電容效率和MLCC的薄層化、小型化。平均粒徑為小粒徑的產品具有較好的絕緣和耐電壓特性,小粒徑的BaTiO3產品(常見用于制備MLCC陶瓷漿料的陶瓷粉體材料)使用壽命將顯著延長2。
Nicomp納米激光粒度儀系列 Nicomp系列納米激光粒度儀采用動態光散射原理檢測分析樣品的粒度分布,基于多普勒電泳光散射原理檢測ZETA電位。 l 粒徑檢測范圍0.3nm-10μm,ZETA電位檢測范圍為+/-500mV l 搭載Nicomp多峰算法,可以實時切換成多峰分布觀察各部分的粒徑。 l 高分辨率的納米檢測,Nicomp納米激光粒度儀對于小于10nm的粒子仍然現實較好的分辨率和準確度。
尾端大粒子濃度檢測 目前MLCC使用的鈦酸鋇粉體粒徑極小,在80nm以下,粉體表面能較大,導致粉體的團聚形成大顆粒,陶瓷漿料中粉體分布不均勻,會造成殼層厚度不均勻3,影響后續流延工藝和印刷工藝的效果。
AccuSizer顆粒計數器系列 AccuSizer系列在檢測液體中顆粒數量的同時精確檢測顆粒的粒度及粒度分布,通過搭配不同傳感器、進樣器,適配不同的樣本的測試需求,能快速而準確地測量顆粒粒徑以及顆粒數量/濃度。 l 檢測范圍為0.5μm-400μm(可將下限拓展至0.15μm)。 l 0.01μm的超高分辨率,AccuSizer系列具有1024個數據通道,能反映復雜樣品的細微差異,為研發及品控保駕護航。 l 靈敏度高達10PPT級別,即使只有微量的顆粒通過傳感器,也可以精準檢測出來。 l 可出具法規報告 穩定性分析檢測 陶瓷漿料的穩定性影響其存放時間,陶瓷漿料是生產MLCC的第一個環節,再進行后續工藝,如流延、印刷,如果漿料穩定性較差,在進行上述工藝過程中發生了大量沉淀、團聚,陶瓷介質的緊密性和穩定性將會受到影響。在陶瓷漿料制備中,控制尾端大粒子數量以及對漿料進行分散能使陶瓷漿料更為穩定。
LUM穩定性分析儀 Lum穩定性分析儀可以直接測量整個樣品的分散體的穩定性,檢測和區分各種不穩定現象,如上浮、絮凝、聚集、聚結、沉降等,通過測量結果可用來開發新的配方和優化現有的配方及工藝。 l 快速、直接測試穩定性,無需稀釋,溫度范圍寬廣 l 可同時測8個樣品,測量及辨別不同的不穩定現象及不穩定性指數 l 加速離心,最高等效2300倍重力加速度 過濾 過濾是在陶瓷漿料制備及使用過程中都非常重要的一道工序,用于除去CMP Slurry中的雜質和尾端大顆粒,為后續流延、印刷工藝提供更好的原料。過濾時使用不同的膜將會影響物理攔截,吸附攔截等效果,需根據不同的工藝選擇能相容該產品的濾芯。
Entegris-ANOW 濾芯 Entegris-Anow是一家高分子微孔膜過濾企業,專業從事MCE、Nylon、PES、PVDF、PTFE等(膜孔徑為0.03μm~10μm)微孔膜的研發及生產,具有二十多年服務與醫藥客戶經驗,并為全球生物制藥、醫療器械、食品飲料、實驗室分析、微電子及工業等領域的客戶提供過濾、分離和凈化解決方案。 Entegris與Anow的結合,引入Entegris質量管理體系,每一支濾芯都經過嚴格檢查,此外,新建成的CTC驗證中心,為全球客戶提供專業的驗證服務。 [1] . Huang Y A,Biao L U,Zou Y X,et al.Grain Size Effect on Dielectric,Piezoelectric and Ferroelectric Property of BaTiO Ceramics with Fine Grains[J]. Journal of Inorganic Materials,2018,33(7):767-772. [2] . 安可榮,黃昌蓉,陳偉健.鈦酸鋇粉體粒徑對MLCC性能的影響[J].電子工藝技術,2020,41(05):295-297.DOI:10.14176/j.issn.1001-3474.2020.05.013. [3] 劉偉峰.高效分散處理的MLCC陶瓷漿料性能分析[J].電子工藝技術,2021,42(06):353-356.DOI:10.14176/j.issn.1001-3474.2021.06.012. 相關產品 更多
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