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主要應用于泛半導體行業的生產工藝 處理 酸性,堿性,可燃,脫硫 及 一些特殊氣體。其中采用干式吸附處理原理 不需要用水,徹底杜絕氣體反映源;一備一用 閥門采用 手/自動一體切換的設計;采用進口吸附劑原料配比 吸附效率高 , 延長周期 設備使用壽命長等特點,其中設備 及 吸附藥劑 自主國產化,品質保障且交期快,客戶滿意度高。
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產品質量
售后服務
易用性
性價比
XRD系列晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
紅外快速退火爐系統
自動劃片機
DAGE4000多功能推拉力測試機
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