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?CMP工藝和CMP研磨液廣泛應(yīng)用于微電路制造過(guò)程中的拋光中。CMP研磨液的品質(zhì)是否良好對(duì)于能否最大限度地提高設(shè)備產(chǎn)量至關(guān)重要，所以需要定期測(cè)量研磨液的粒徑分布(PSD)。除了研磨液中顆粒的平均粒徑，這種監(jiān)測(cè)技術(shù)在理想情況下應(yīng)該對(duì)遠(yuǎn)偏離于分布主峰的尾端顆粒的存在敏感(即對(duì)于少量較大顆粒的高敏感性）。這

?眼用溶液本質(zhì)上應(yīng)無(wú)可見(jiàn)顆粒，可以用兩種方法來(lái)檢測(cè)溶液中存在的亞可見(jiàn)顆粒。第1階段：使用光線遮擋（AccuSizer）來(lái)計(jì)算粒子的數(shù)量和大小。如果第1階段試驗(yàn)失敗，樣品則必須通過(guò)顯微鏡程序（第2階段），該程序有其自身的限值。取樣必須基于各種因素，如產(chǎn)品體積、歷史計(jì)數(shù)數(shù)據(jù)、單位之間的計(jì)數(shù)可變性以及存在顆

?有許多方法可以確定乳液的平均液滴尺寸，但大多數(shù)方法無(wú)法確定少量會(huì)導(dǎo)致頸環(huán)的超大尺寸物質(zhì)。基于大小和計(jì)數(shù)單個(gè)粒子的方法特別適合這種類(lèi)型的分析，在此過(guò)程中，即使是少量異常值也可以進(jìn)行大小和計(jì)數(shù)。通過(guò)原理為單顆粒光學(xué)傳感器技術(shù)（SPOS）的AccuSizer系統(tǒng)非常適合定量乳劑尾部中主要小于1微米的超大離

?傳統(tǒng)意義上，紅細(xì)胞和白細(xì)胞都是用電阻法計(jì)數(shù)的。這種方法測(cè)量的是當(dāng)分散在導(dǎo)電介質(zhì)中的粒子通過(guò)小孔時(shí)，電阻的增加或相反，電導(dǎo)率的減少。這種反應(yīng)的大小與粒子的體積和大小有關(guān)。盡管這項(xiàng)技術(shù)多年來(lái)一直適用，但本文證明，使用SPOS(單粒子光學(xué)傳感)結(jié)合自動(dòng)稀釋功能對(duì)紅細(xì)胞和白細(xì)胞的大小及顆粒計(jì)數(shù)檢測(cè)，可以比電

?傳統(tǒng)意義上，紅細(xì)胞和白細(xì)胞都是用電阻法計(jì)數(shù)的。這種方法測(cè)量的是當(dāng)分散在導(dǎo)電介質(zhì)中的粒子通過(guò)小孔時(shí)，電阻的增加或相反，電導(dǎo)率的減少。這種反應(yīng)的大小與粒子的體積和大小有關(guān)。盡管這項(xiàng)技術(shù)多年來(lái)一直適用，但本文證明，使用SPOS(單粒子光學(xué)傳感)結(jié)合自動(dòng)稀釋功能對(duì)紅細(xì)胞和白細(xì)胞的大小及顆粒計(jì)數(shù)檢測(cè)，可以比電

?CMP漿體粒徑分析：SPOS與費(fèi)朗霍夫 半導(dǎo)體行業(yè)正在朝著更小的線寬和更多的層的方向發(fā)展。邁向這種高密度芯片技術(shù)的最重要的工藝考慮之一是對(duì)平面化步驟的更復(fù)雜的控制。拋光步驟受膠體分散金屬氧化物漿料（CMP，化學(xué)機(jī)械平面化的簡(jiǎn)稱(chēng)）的影響，主要是二氧化硅和氧化鋁，平均直徑在10nm-200nm范

?粒徑控制對(duì)脂質(zhì)體載藥的重要作用及相關(guān)檢測(cè)方法摘要：脂質(zhì)體作為藥物載體，控制其粒徑大小是必要的。動(dòng)態(tài)光散射法和單顆粒光學(xué)傳感技術(shù)可分別對(duì)亞微米、微米級(jí)別的粒徑進(jìn)行分析，美國(guó)藥典中對(duì)粒徑分布有明確的規(guī)定。通過(guò)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了美國(guó)PSS公司的Nicomp 380/ZLS激光粒徑檢測(cè)儀、AccuSizer 780

?漿料粒徑對(duì)CMP工藝缺陷水平的影響 通過(guò)使用兩種粒度測(cè)量?jī)x器，對(duì)最常用的化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）氧化物漿料（CabotSC-112）的漿料粒度進(jìn)行了分析。其中一種儀器是PSS粒度儀公司的Nicomp 370，用于監(jiān)測(cè)平均粒徑為100nm左右的漿料顆粒的主要群體。另一種儀器，Accusizer 770被

?漿料粒徑對(duì)CMP工藝缺陷水平的影響 通過(guò)使用兩種粒度測(cè)量?jī)x器，對(duì)最常用的化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）氧化物漿料（CabotSC-112）的漿料粒度進(jìn)行了分析。其中一種儀器是PSS粒度儀公司的Nicomp 370，用于監(jiān)測(cè)平均粒徑為100nm左右的漿料顆粒的主要群體。另一種儀器，Accusizer 770被

?CMP 研磨液中顆粒的評(píng)價(jià)技術(shù)Geanne Vasiloulos, Zhenwu Lin, Kenneth Adrian 在化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程中，各種研磨液用于晶圓平坦化處理。這些研磨液中顆粒濃度可達(dá)＞1015顆/ml。除了用于拋光的大量顆粒外，研磨液中還含有相對(duì)較少＞1.0um的顆粒（二氧化

?USP <788> Particle Counting AccuSize系列儀器用于不溶性微粒檢測(cè)案例 醫(yī)用注射液不能含有可見(jiàn)異物。不可見(jiàn)異物通過(guò)使用光阻法的法、或者顯微鏡法檢測(cè)，或者兩者同時(shí)使用。在測(cè)量體積>100 mL時(shí)一般用光阻法，除另有規(guī)定外。針對(duì)單個(gè)或者混合無(wú)菌粉

?AN-708蛋白聚集概述基于治療的蛋白質(zhì)溶液聚集可能產(chǎn)生有害的免疫原性。對(duì)于較大尺寸的團(tuán)聚體，可以測(cè)量這些團(tuán)聚體，但在0.15至2微米范圍內(nèi)的較小團(tuán)聚體很難量化。動(dòng)態(tài)光散射(DLS)技術(shù)可以證明聚集體的存在，但不能提供任何關(guān)于聚集體的絕對(duì)濃度的信息。單粒光寫(xiě)傳感器技術(shù)(SPOS)現(xiàn)在可以測(cè)量聚集蛋白

?噴墨墨水過(guò)濾噴墨中過(guò)大的顆粒會(huì)導(dǎo)致分散沉降、不穩(wěn)定或噴墨噴嘴失效。如果檢測(cè)到顆粒過(guò)大，就可以采取措施控制顆粒大小。其中一種方法是通過(guò)過(guò)濾去除大顆粒。測(cè)定分散顆粒平均直徑的方法有很多，但大多數(shù)都不能測(cè)定少量的超大尺寸材料。基于粒度和計(jì)數(shù)單個(gè)粒子的方法特別適合于這種類(lèi)型的分析，在這個(gè)過(guò)程中，即使是少量的

?AN-754 ISO4406污染度等級(jí)應(yīng)用指南必須監(jiān)控各種油（液壓油，變速箱和其他流體動(dòng)力系統(tǒng)）中的顆粒污染，以確保其正常工作并避免損壞有價(jià)值的設(shè)備。通常使用遵循ISO4406標(biāo)準(zhǔn)報(bào)告格式的液體顆粒計(jì)數(shù)器（例如PSS AccuSizer）進(jìn)行這些測(cè)量。本文介紹了AccuSizer如何自動(dòng)執(zhí)行這些測(cè)量

?CMP過(guò)濾效率CMP解決方案在半導(dǎo)體技術(shù)高速公路上發(fā)揮著不可或缺的作用。它們是高密度集成電路生產(chǎn)中必不可少的步驟。CMP溶液是由多種組分組成的復(fù)雜分散體。這些膠體系統(tǒng)的生產(chǎn)和穩(wěn)定性非常復(fù)雜，很難預(yù)測(cè)，因此必須在生產(chǎn)過(guò)程中，甚至在最終裝運(yùn)之前對(duì)它們進(jìn)行監(jiān)控。一些CMP溶液表現(xiàn)出獨(dú)特的行為，受剪切和機(jī)械

?USP<729>脂質(zhì)注射乳劑中顆粒大小分布 脂滴的大小是至關(guān)重要的，因?yàn)檩^大粒徑的乳粒(>5μm)可以被困在肺部，也是乳化液破壞穩(wěn)定的一個(gè)指標(biāo)。 USP<729>測(cè)試需要兩種分析技術(shù)：DLS，或激光衍射，以測(cè)量分布的均值和標(biāo)準(zhǔn)差，光阻法是用于檢測(cè)大于5μm的尾端大顆粒。

?Application Note AN–CMP11Ultra-Sensitive Online Monitoring of CMP Slurries by Single-Particle Optical Sensing (SPOS) 通過(guò)單顆粒光學(xué)傳感（SPOS）對(duì)CMP漿料進(jìn)行超靈敏的在線監(jiān)

?Application Note AN–CMP11Ultra-Sensitive Online Monitoring of CMP Slurries by Single-Particle Optical Sensing (SPOS) 通過(guò)單顆粒光學(xué)傳感（SPOS）對(duì)CMP漿料進(jìn)行超靈敏的在線監(jiān)

?利用LUMiSizer?表征納米氧化物水性分散體的分散性，穩(wěn)定性和粒徑 納米氧化物（如納米Al2O3、納米TiO2和納米ZnO等）水性分散體是納米氧化物粒子在水中的分散體。在多數(shù)情況下，納米氧化物粒子的成功使用強(qiáng)烈地依賴(lài)于把納米粒子分散于液相中的能力。像這樣特殊應(yīng)用的領(lǐng)域如化妝品、涂料、紡織、拋光

?AN-170蛋白聚集概述在蛋白質(zhì)溶液中聚集已被證明有有害的影響。對(duì)于較大的聚集體，可以測(cè)量這些聚集體，但是在0.150 nm至2微米范圍內(nèi)的較小聚集體具有很難量化。Nicomp動(dòng)態(tài)光散射(DLS)技術(shù)可以證明聚集體的存在，但不能提供任何關(guān)于聚集體絕對(duì)濃度的信息。討論生物治療藥物已被證明容易誘導(dǎo)產(chǎn)生抗

?AccuSizer檢測(cè)微泡超聲對(duì)微泡的存在極為敏感，因此它們被用作造影劑，在各種超聲分子成像程序中增強(qiáng)信號(hào)強(qiáng)度。這種方法通常稱(chēng)為造影增強(qiáng)超聲(CEUS)。微泡的粒徑分布和濃度對(duì)成像質(zhì)量和患者安全至關(guān)重要。PSS AccuSizer是準(zhǔn)確確定用于分子成像的微泡的大小和濃度的首選方法。介紹許多超聲波分子

?Application Note AN–CMP10Analyzing Large Particles in CMP Slurries 分析CMP Slurry中的大顆粒化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）工藝的質(zhì)量取決于拋光設(shè)備和漿料，漿料由包含多種化學(xué)添加劑的液體中定義明確的固體顆粒組成。當(dāng)今主要的生產(chǎn)問(wèn)

?PSS粒度儀在脂質(zhì)體行業(yè)上的應(yīng)用 在醫(yī)藥和化妝品行業(yè)中脂質(zhì)體是由磷脂制作而成的小球，它的粒徑和表面電荷的檢測(cè)是非常重要的一項(xiàng)。動(dòng)態(tài)光散射是檢測(cè)亞微米脂質(zhì)體最常見(jiàn)的分析技術(shù)，單顆粒光學(xué)傳感技術(shù)用于檢測(cè)大于1微米的脂質(zhì)體。Nicomp 380激光粒度儀和AccuSizer 780顆粒計(jì)數(shù)器在世界各地的實(shí)

?電解質(zhì)對(duì)脂肪乳制劑的影響關(guān)鍵詞：三腔袋、全腸外營(yíng)養(yǎng)液、電解質(zhì)、脂肪乳穩(wěn)定性、大乳粒、大乳粒測(cè)定原理、大乳粒檢測(cè)儀、大乳粒分析儀、大乳粒檢測(cè)、大乳粒滅菌后超標(biāo)是什么原因、PFAT5、PFAT5檢測(cè)、PFAT5什么意思、大乳粒藥典、靜脈注射脂肪乳粒要求、脂肪乳大乳粒檢測(cè)原理、大乳粒檢測(cè)方法及各國(guó)藥典的規(guī)

?血細(xì)胞Zeta電位紅血球和白血球Zeta電位測(cè)量 Zeta 電位已用于測(cè)量膠體分散的穩(wěn)定性。其基礎(chǔ)是，Zeta電位與粒子表面的電荷成正比。Zeta電位越大，這些粒子之間的排斥力就越強(qiáng)。如此巨大的排斥力不斷將粒子從隨機(jī)碰撞一起擴(kuò)散，形成聚合。Zeta 電位測(cè)量可用于其他應(yīng)用。在這篇論文中，Zeta電位

?血細(xì)胞Zeta電位紅血球和白血球Zeta電位測(cè)量 Zeta 電位已用于測(cè)量膠體分散的穩(wěn)定性。其基礎(chǔ)是，Zeta電位與粒子表面的電荷成正比。Zeta電位越大，這些粒子之間的排斥力就越強(qiáng)。如此巨大的排斥力不斷將粒子從隨機(jī)碰撞一起擴(kuò)散，形成聚合。Zeta 電位測(cè)量可用于其他應(yīng)用。在這篇論文中，Zeta電位

?Nicomp 388對(duì)PVC（聚氯乙烯）乳液的分析 在分析聚合物乳液的粒徑分布時(shí)，常用的方法是光散射法。一般來(lái)說(shuō)，它們分為兩類(lèi):靜態(tài)和動(dòng)態(tài)。靜態(tài)光散射，也稱(chēng)為激光衍射，使用空間陣列探測(cè)器記錄散射光模式作為一個(gè)角度的函數(shù)。動(dòng)態(tài)光散射測(cè)量，在一段時(shí)間內(nèi)，散射光的振幅在一個(gè)角度。在這兩種技術(shù)中，需要專(zhuān)門(mén)的

?Nicomp 388對(duì)PVC（聚氯乙烯）乳液的分析 在分析聚合物乳液的粒徑分布時(shí)，常用的方法是光散射法。一般來(lái)說(shuō)，它們分為兩類(lèi):靜態(tài)和動(dòng)態(tài)。靜態(tài)光散射，也稱(chēng)為激光衍射，使用空間陣列探測(cè)器記錄散射光模式作為一個(gè)角度的函數(shù)。動(dòng)態(tài)光散射測(cè)量，在一段時(shí)間內(nèi)，散射光的振幅在一個(gè)角度。在這兩種技術(shù)中，需要專(zhuān)門(mén)的

?玻璃拋光的“高光時(shí)刻”玻璃的出現(xiàn)與使用在人類(lèi)的生活里已有四千多年的歷史，在12世紀(jì)，玻璃作為工業(yè)材料得到廣泛應(yīng)用。18世紀(jì)，為適應(yīng)制望遠(yuǎn)鏡的需要，制出光學(xué)玻璃。1874年，比利時(shí)首先制出平板玻璃。此后，隨著玻璃生產(chǎn)的工業(yè)化和規(guī)模化，各種用途和各種性能的玻璃相繼問(wèn)世。現(xiàn)代，玻璃已成為日常生活、生產(chǎn)和科

?不是什么高壓微射流均質(zhì)機(jī)都叫意大利PSI1.何為高壓微射流均質(zhì)機(jī)？高壓均質(zhì)機(jī)原理（1）：高壓均質(zhì)機(jī)主要由高壓均質(zhì)腔和增壓機(jī)構(gòu)構(gòu)成。高壓均質(zhì)腔的內(nèi)部具有特別設(shè)計(jì)的幾何形狀，在增壓機(jī)構(gòu)的作用下，高壓溶液快速地通過(guò)均質(zhì)腔，物料會(huì)同時(shí)受到高速剪切、高頻震蕩、空穴現(xiàn)象和對(duì)流撞擊等機(jī)械力作用和相應(yīng)的熱效應(yīng)，由此